2000℃研究用真空烧结炉

2000℃研究用真空烧结炉

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-05-17 15:35:48
2498
属性：
产地类别:国产；价格区间:面议；仪器种类:真空炉；应用领域:化工,石油,建材,航天,制药；
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产品属性
产地类别
国产
价格区间
面议
仪器种类
真空炉
应用领域
化工,石油,建材,航天,制药
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上海皓越真空设备有限公司

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产品简介

研究用真空烧结炉用石墨，钼屏或钨屏作发热体的高温真空电阻炉，额定温度为1000~2400℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。

详细介绍

一、2000℃研究用真空钨丝炉特点：

  适用于无机材料的成形烧结，原料反应烧结的制备。同时也适用于金属材料的粉未冶金烧结，还适用于表面喷涂复合材料的高温烧结处理。此真空炉为高校，科研机构真空炉，根据原材料的不同，可以选用不同的加热体，可以选择石墨，钼屏，钨屏，金属钽等。

二、2000℃研究用真空钨丝炉型号规格： 

产品型号

加热元件材质

设备形式

取料方式

有效工作区
（mm）

设计加热
温度（℃）

常用工作
温度（℃）

加热功率
（KW）

冷态
极限真空度（Pa）

VVSw-30-2000

钨丝

立式

上取料

Φ100×100

2000

1800

30

6.7×10-3

VVSw-50-2000

钨丝

立式

上取料

Φ160×160

2000

1800

50

6.7×10-3

VVSw-150-2000

钨丝

立式

下取料

Φ300×400

2000

1800

150

6.7×10-3

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