输入电源

208 - 240VAC  , 10A , 50/60 Hz, 单相

功率

< 2000W  (包括真空泵)

输出电压 (DC)

• AC10V  zui大电流 100A （对于真空镀膜）
• DC 3KV, 10mA   （对于等离子溅射）

真空腔体

有一玻璃钟罩：250mm dia. x 340mm

（2）玻璃处理室：

• 玻璃罩 A:内径８８mm×高度１４０mm（用于真空镀膜)
• 玻璃罩 B:内径８８mm×高度５７mm（用于等离子溅射）

镀膜装置

对于制膜，仪器可设置三种模式：

（1）一种模式专门针对于蒸发镀膜（下方左图）

• 此仪器可以同时蒸镀两种材料，其zui高温度可以达到1800℃
• 采用钨丝进行加热

（2）蒸碳镀膜模式（下方中图）

仪器中包括有两组碳棒

（3）直流等离子溅射模式（下方右图）仪器中包含有一金靶（38mm Dia x 0.2 mm t）

• 可在本公司选购其他材质靶材( 请点击查看 )
•      

    Thermal Evaporation  Carbon coating   Plasma sputtering

样品台

• 样品台可以自动转动（见做图）
• 样品台尺寸：40mm
• 仪器上安装有一电动快门用于控制蒸镀的开始与停止（见右图）  

真空泵

• 仪器下端安装有一机械泵和分子泵
• 抽速:600L/S
• 真空度:  10-6 torr
• 设备工作环境温度:< 32°C

控制面板

在控制面板上可以选择镀膜模式，调节溅射电流和蒸发功率

外型尺寸

L800mm× W560mm× H1340mm

净重

150 kg

质保期

一年质保期，终身维护

CE certified