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JOXTEC半导体精密恒温加热台烤胶机烘胶台HP20/HP30/HP40/HP50
适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆后,薄膜烘干,固化。热板温度稳定度高,重复性好。可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。
采用PID控温系统自动测温控温,烘胶速度快、均均、控温精度高等特点,可长时间持续稳定工作。
它用于光刻工艺的预烘烤,后烘烤和硬烘烤。该产品具有较高的烘烤速度,均性,较高的温度控制精度和高度可重复的实验结果。烘烤控制设计用于预烘烤,后烘烤和硬烘烤,以进行光蚀刻过程。
是在硅片或其他基板上制造金属氧化物薄膜、聚合物涂层和金属有机薄膜的理想工具。与传统烤箱相比,使用加热板固化薄膜将减少烘烤时间,提高可重复性,并获得更均匀和更好的薄膜质量。并为薄膜和涂层提供均匀的加热。因为薄膜/涂层是从下往上加热的,所以可以避免皮肤效应。
与传统的烘箱、真空干燥箱相比,利用烤胶机固化膜层的优势有:
(1)烘烤时间减少;
(2)重复性高;
(3)对薄膜的固化效果好。
烤胶机整个面板温度均匀,对基片膜层固化效果非常好。由于固化是从下往上,所以不会“皮肤效应”。这种“由里而外”的固化方式尤其适合较厚的膜层,因为最靠近基片的膜层会首先固化好,然后是膜层靠外的部分。该款烤胶机由于升温迅速,所以产量较高。烘烤时间用秒计算,而不是像传统烘箱用分钟或者小时计算。
烤胶机可在电子、化工等行业的工矿企业、科研、教育等单位,进行热老化、温度试验及干燥、烘焙、消毒和热处理等试验
JOXTEC半导体精密恒温加热台烤胶机烘胶台HP20/HP30/HP40/HP50 产品特性:
加热盘面经喷砂、阳极氧化处理,具有更好耐腐蚀性, 更耐刮, 质感更佳
采用热传导率佳的铝合金板材,盘面均温性能优异,长时间高温下不变形。
精密加工,一体成型,使盘面拥有*的平整度
采用高性能电热管加热,升温快,热效率高,使用寿命更长,维护简单。
外壳采用不锈钢材质,美观耐用,传热慢,洁净易维护
模块化设计,维护方便成本低。
进口微电脑PID控制器
断电记忆功能
具有PID自动演算功能
同时显示设定温度和实际温度
0.1°C分辨率,保证准确的温度
具有温度偏差补偿,保证实际温度与显示温度一致
自我诊断功能,温度异常,过热、断线及电源保护开关
具超温保护功能
采用高精度温度控制器,PID控制,解析度0.1℃
14bit的A/D转换分辨率,0.2%FS的显示精度,取样时间250ms,可手动补偿PV显示值(PVOS)。内建Autozero-Autospan功能,自动校正零点及斜率,使显示精度不因长时间而劣化。
自动演算(AT):使用自动演算功能,可自动算出系统优化的PID参数数值。当自动演算进行中,PV会上下震动1~2个周期。为保护使用者的设备。可设定自动演算偏移量(ATVL),使PV在数值较低处震荡,有效避免冲温效应。
导热性能佳的合金盘面
经过多次实验和测试,公司研发出导热性能佳且具有较高强度的合金盘面。保证了盘面加热温度的均匀性。并且长时间使用不会变形,平整如初!
加热元件的均匀排布
公司利用有限元热分析方法对加热板盘面温度均匀性进行了分析,经多次模拟分析和调整,加热结构,优化设计出了满足加热板盘面温度均匀性可达*要求的加热元件排布方式,并以此为主要依据完成了整体结构的设计。目前加热板升温速度快,盘面温度均匀,加热元件耐用。
可选配:多段微电脑程序型温度表
主要关键技术指标:
温度范围℃ | 室温~300 or 350℃ |
分辨率℃ | 0.1℃ |
温度波动 | ≤±0.1℃ |
加热板均温性 | ≤±1.5 or 2%*读值 |
常用面板尺寸:
20*20CM
30*30CM
30*60CM
50*50CM
欢迎其他规格定制