MP-2D金相试样磨抛机
用途和特点
在金相试样制备过程中，试样的磨光是不可少的工序。试样的磨光一般分粗磨和精磨两道工序。粗磨的目的是为了获得一个平整的表面，精磨的目的是为了消除这些磨痕，以得到平整而光滑的磨面为下一步的抛光做准备。
MP-2D金相试样磨抛机采用双盘四速设计，可以用于各种金相试样的预磨和抛光，壳体采用ABS塑料一体成型，外观新颖，具有转动平稳、噪声小、操作方便、工作效率高等特点，并自带冷却装置，可以在磨制时对试样进行冷却，以防止因试样过热而破坏金相组织。适用于工厂、大专院校及科研单位的金相试验室，是金相试样磨抛的佳选择。
 
技术参数
磨抛盘直径：φ203mm（可定制φ230mm、φ250mm）
磨抛盘转速：
左盘：300r/min（低速）、600r/min（高速）
右盘：500r/min（低速）、1000r/min（高速）
输入电压：三相380V 50Hz
输入功率：0.37KW
外形尺寸： 730×765×320mm
重量： 50Kg
 
装箱单
型号：MP-2D
产品名称：金相试样磨抛机
单位：台
数量：1
产品附件
磨抛盘 2个 已安装在设备上
挡水圈 2个 已安装在设备上
压圈 2个 已安装在设备上
水砂纸 2张 Φ203mm
抛光织物 2张 Φ203mm
进水管 1根 Φ12
出水管 1根 Φ32
技术文件：1.产品说明书1份 2.产品合格证1份