产品简介
FPD-PECVD 电浆辅助化学气相沉积：随着LCD面板和制造所需玻璃的尺寸的增加，其制造设备也变得更大，需要越来越大的设备投资。SYSKEY针对中小尺寸的需求开发串集的PECVD 设备，提供非晶矽（a-Si），氧化矽（SiOx），氮氧化矽（SiON），氮化矽（SiNx）和多层膜沉积。
详细介绍
FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積
隨著LCD面板和製造所需玻璃的尺寸的增加，其製造設備也變得更大，需要越來越大的設備投資。SYSKEY針對中小尺寸的需求開發串集的PECVD 設備，提供非晶矽（a-Si），氧化矽（SiOx），氮氧化矽（SiON），氮化矽（SiNx）和多層膜沉積。
FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積
| 應用領域 |
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非晶矽前驅物（a-Si）。 氮化矽 (SiNx)。 氧化矽，矽烷基(SiOx)。 氧化矽，TEOS (SiOx)。
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| 配置和優點 | 選件 |
| Cassette傳送站。 TEOS沉積製程。 OES、RGA或製程監控的額外備用端口。
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