光刻胶-9,9-二(丙烯酸甲酯基)基芴

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光刻胶-9,9-二(丙烯酸甲酯基)基芴

光刻胶,又称光致抗蚀剂,具有光化学性,在光的照射下溶解度发生变化,一般以液态涂覆在半导体、导体等基片表面上,曝光烘烤后成固态,它可以实现从掩膜版到基片上的图形转移,在后续的处理工序中保护基片不受侵蚀,是微细加工技术中的关键材料。

中文名称：(9H-芴-9,9-二基)双(亚甲基)二丙烯酸酯

英文名：9,9-Bis[(acryloyloxy)methyl]fluorene

别称：9,9-二(丙烯酸甲酯基)基芴

CAS号：583036-99-1

分子量：334.36500

密度：N/A

沸点：N/A

分子式：C21H18O4

熔点：N/A

MSDS：N/A

闪点：N/A

EM阻剂/光刻胶/电子束抗蚀剂

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