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TF1200-PECVD型等离子增强化学气相沉积系统
PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor
Deposition) 等离子体增强化学气相沉积法
等离子增强化学气相沉积系统
设备介绍：
本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。
产品简介：
此款设备配有Plasma实现等离子增强，滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。并可选配气氛微调装置，可准确的控制反应腔体内部的气体压力，带刻度的调节阀对于做低压CVD非常简单实用，工艺重复性好，对于石墨烯生长工艺非常合适，也同样适用于要求快速升降温的CVD实验。
主要组成系统及特点：
本设备主要由管式加热炉体，真空系统，质子流量供气系统，射频等离子源，石英反应腔室等部件组成。
主要特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、*性和稳定性高。
5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。
开启式真空管式炉技术参数 | |||||
| 石英管尺寸 | L1400mm *（根据需求选择不同直径的石英管作为反应室。有Φ40，Φ60，Φ80，Φ100，Φ120，Φ150等规格可选。） | |||
加热元件 | 掺钼铁铬铝合金电阻丝 | ||||
测温元件 | K型热电偶 | ||||
加热区长度 | 400mm | ||||
恒温区长度 | 200mm | ||||
工作温度 | ≤1100℃ | ||||
控温模式 | 模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能 | ||||
控温精度 | ±1℃ | ||||
升温速率 | ≤20℃/min | ||||
电功率 | AC220V/50HZ/3KW | ||||
质量供气系统技术参数（根据需求选择多路质子流量供气系统。有两路GQ-2Z，三路GQ-2Z，四路GQ-2Z，五路GQ-2Z或更多路供选择。） | |||||
| 外形尺寸 | 600x600x600mm | |||
标准量程 | 50sccm（CH4）、200sccm（H2）、500sccm（Ar、N2）； | ||||
数显压力表测量范围 | -0.1Mpa～0.15Mpa | ||||
极限压力 | 3MPa | ||||
针阀 | 316不锈钢 | ||||
截止阀 | Φ6mm 316不锈钢针阀 | ||||
电功率 | AC220V/50HZ/20W | ||||
响应时间 | 气特性：1～4 Sec，电特性：10 Sec | ||||
准确度 | ±1.5% | ||||
线性 | ±0.5～1.5% | ||||
重复精度 | ±0.2% | ||||
接口 | Φ6,1/4'' | ||||
真空系统技术参数（根据需求选择不同真空效果的真空系统。有DZK10-1（极限真空0.1Pa），GZK10-3（极限真空0.001Pa），以及进口高真空机组（极限真空0.0001Pa）供选择。） | |||||
| 外型尺寸 | 600×600×600mm | |||
工作电电压 | 220V±10% 50~60HZ | ||||
功率 | 400W | ||||
抽气速率 | 4L\\s | ||||
极限真空 | 4X10-2Pa | ||||
实验真空度 | 1.0X10-1Pa | ||||
容油量 | 1.1L | ||||
进气口口径 | KF25 | ||||
排气口口径 | KF25 | ||||
转速 | 1450rpm | ||||
射频电源（根据需求选择强度不同的射频电源。有DLZ300（300W），DLZ500（500W）或更大功率的射频电源供选择） | |||||
| 信号频率 | 13.56 MHz±0.005% | |||
功率输出范围 | 5-300W 5W-500W可选 | ||||
最大反射功率 | 200W | ||||
射频输出接口 | 50 Ω, N-type, female | ||||
功率稳定度 | ±0.1% | ||||
谐波分量 | ≤-50dbc | ||||
供电电压 | 单相交流（187V-253V） 频率50/60HZ | ||||
整机效率 | >=70% | ||||
功率因素 | >=90% | ||||
冷却方式 | 强制风冷 | ||||
艾科迅部分客户（CVD及PECVD及管式炉系列）
等离子增强化学气相沉积系统 常见PECVD系统组合 1. 1200度60滑轨式微型管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，300W射频电源 |
TF1200-60S-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ300 |
2. 1200度60滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源 |
TF1200-60-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 |
3. 1200度60双温区滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源 |
TF1200-60II-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 |
4. 1200度60三温区滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源 |
TF1200-60III-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 |
5. 1200度60微型预热炉，1200度60滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源 |
TF1200-60S，MXG1200-60-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 |
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大 学
西安航天165所 | 中科院生态环境所 | 中科院金属研究所 | 中电科技集团13所 |
绍兴技术监督检测院 | 锡矿山闪星锑业 | 四川新材料研究中心 | 中电科技集团49所 |
中国建筑科院研究院 | 重庆钢铁研究所 | 上海应用物理所 | 长春应用化学研究所 |
山西煤炭化学研究所 | 航天推进技术研究所 | 上海硅酸盐研究所 | 广州能源研究所 |
四川材料与工艺研究所 | 北方涂料工业研究设计院有限公司 | ||
科研单位
江西吉阳集团 | 内蒙古天宇集团 | 佳英特能源材料公司 |
北京东旭集团 | 新疆庆华能源集团 | 山东通用光伏能源有限公司 |
青岛韩亚重工 | 安徽天康集团 | 河北神通光电科技有限公司 |
日照华轩新能源有限公司 | 清美通达锂能科技有限公司 | 成都登特牙科技术开发有限公司 |
常州乐奥医疗科技有限公司 | 邦迪管路系统（上海）有限公司 | 温州天球电器有限公司 |
凯锐众成金刚石工具有限公司 | 中联科伟达技术股份有限公司 | 三鑫重工机械设备有限公司 |
辽宁锦州金属有限公司 | 青海新型建材工贸有限公司 | 惠州拓普金属材料有限公司 |
AEM科技（苏州）有限公司 | 深圳双德先进陶瓷有限公司 | 唐山华运铁路交通器材有限公司 |
上海合全药业股份有限公司 | 东莞大洲电子材料有限公司 | 慈溪大旗机械科技有限公司 |
苏州迈众注塑系统有限公司 | 东莞迈科科技有限公司 | 苏州大洋精锻有限公司 |
天津索克汽车试验有限公司 | 苏州太智机电有限公司 | 上海铁高国际贸易有限公司 |
黄石沪士电子有限公司 | 株洲冶炼集团股份有限公司 | 贵州皓天光电科技有限公司 |
哈尔滨亚源电力有限公司 | 马尔精密量仪（苏州）有限公司 | 湖南元素密码烯高科技有限公司 |
中山翔江精密光学有限公司 | 天通控股股份有限公司 | 上海超硅半导体有限公司 |
苏州海铂晶体有限公司 | 晶能光电（江西）有限公司 | 唐山晶源电子有限公司 |
青岛嘉星晶电科技有限公司 | 常州好利来光电科技有限公司 | 三安光电股份有限公司 |
