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一、真空箱式炉的应用领域
该真空箱式炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和厦门宇电50段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，真空电阻炉广泛应用于金属材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理；也可以用于特殊材料的热处理。
二、真空箱式炉的主要特点
炉门口安装有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，并有多处洗炉膛进气口，出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气等气体，能抽真空，真空度可达1pa,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
三、真空箱式炉的规格型号
设备型号 GR.VBF8/16 GR.VBF12/16 GR.VBF18/16 GR.VBF36/16 zui高温度 1600℃ 1600℃ 1600℃ 1600℃ 额定温度 1500℃ 1500℃ 1500℃ 1500℃ 控制精度 ±1℃ ±1℃ ±1℃ ±1℃ 炉膛尺寸（mm）
（DxH）200×200×200 300×200×200 300×250×250 400×300×300 发热元件 硅钼棒 硅钼棒 硅钼棒 硅钼棒 冷态极限真空 1pa 1pa 1pa 1pa 冷态压升率 ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h zui大功率 4kw 7kw 9kw 16kw
