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面议TruPlasma DC 4000 (G2) 系列专为困难材料的直流反应溅射而开发。以脉冲式直流电工作的该款发生器经受住尤为严苛的 PVD （物理气相沉积）和 PECVD （等离子体增强化学气相沉积）工艺的考验，这些工艺对涂层质量与生产效率均有*要求。紧凑型直流电源可在脉冲与偏压模式下使用——亦即两种设备集于同一外壳！
出色的涂层质量和生产效率
数字化信号处理确保工艺稳定并将受电弧限制的时间损失最小化。
即便工艺条件严苛，也能实现最佳结果
快速电弧处理与直流脉冲技术相结合，将基板损坏最小化。
轻松适配工艺
得益于宽泛的频率范围和可调反向电压。
紧凑又坚固的结构
集成水冷装置节省空间，减少维护工作。
快速电弧处理与直流脉冲技术相结合使微滴率降低且表面缺陷减少。受电弧限制的工艺中断降到最少，沉积速率显著提高。
可在宽泛的范围内调整脉冲频率，直流发生器还配备偏压模式。借此可将同一台设备用于众多应用。精心设计的监控工具支持您优化工艺。
不同选项让脉冲式直流电源以最佳方式适配您的应用。
多台 TruPlasma DC 4000 (G2) 系列直流电源可同步运行。对于指向不同目标的多台电源，该模式能够实现电弧的同步识别。脉冲模式也可进行同步。
