等离子清洗机是一种新型的低成本、高性能、实验性反应离子刻蚀系统，手动装载晶圆片，应用于单片晶圆刻蚀、残胶去除及表面清洗工艺，可满足小型晶圆厂、大学实验室、初创公司的使用需求。等离子清洗设备采用触摸屏+PLC全自动控制，凭借其时尚、紧凑的设计，只需占用很小的洁净室空间，使用维护简单方便。

等离子清洗机能清洁晶圆、达到对材料改性、光刻胶灰化等目的。等离子清洗机也适于处理复杂的曲面或沟槽，处理对象包括：聚丙烯(PP)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙乙烯(PS)、高抗冲聚丙乙烯(HIPS) 、ABS、PC、EPDM、聚酯(PET、APET)、聚氨酯(PUL)、聚甲醛、乙烯基、尼龙、(硅)橡胶、有机玻璃等各种高分子材料、电线、电缆、光缆、汽车密封条及玻璃、陶瓷和金属。

等离子清洗机能去除硅胶片上元件表面的光敏有机资料制造的光刻胶。在堆积工艺开端前，需求将残留的光刻胶去除洁净。传统的去胶办法采热的硫酸和过氧化氢溶液，或其他的有毒的有机溶剂。但是，运用等离子清洗机清洗能够用三氧化硫等气体去胶，这种办法削减了对化学溶剂和有机溶剂的依赖。关于一般的制造厂来说，选用等离子体清洗机去胶可使化学溶液的运用量削减1000倍，不只环保，还能为企业节约大量资金。

等离子清洗机功能主要依靠等离子中活性颗粒的“活化”来清除物体表面污渍。从机理上讲，等离子体清洗一般包括下列过程：无机气体被激发到等离子体状态；固体表面吸附气相物质；吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；主要是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。等离子清洗机可用于清洗、刻蚀、活化和表面准备等。