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伴随着半导体工业的发展,我国半导体圆晶生产已从较小的尺寸发展到现在的8英寸(200mm),MA3000就是为了适应大芯片检测而开发的新产品。MA3000配备反射照明光学系统,反射式暗场和偏光系统,使它可用在相同尺寸的半导体掩模板,液晶基板或其它平面显示器及各种工业器件的检验场合。 仪器特性:
高质量的光学系统,确保仪器在对各试样检验时均能获得良好的成像质量。 无限远校正像差长距平场消色差物镜 MA3000配用了本公司开发的视场数 22mm无限远校正像差超长工作距离平场消色差系列物镜。对各种被检测的试样均能获得优良的成像质量。物镜的超长工作距离,可避免物镜与试样相碰而损伤试样或物镜 在反射照明光路中,明场、暗场和偏光可快速转换 MA3000配有明场和暗场共用的物镜,只要拉动拉杆,即可明场暗场转换;只需插入或拉出起偏器和检偏器,即可偏光转换,操作十分方便。 采用完善的柯拉照明系统 MA3000采用完善的柯拉照明系统,在整个视场内照明均匀。 MA3000大平台工业显微镜配套表
注:●为*件,○为可选件。 |