HN.VSF系列真空烧结炉的详细介绍:

HN.VSF系列真空烧结炉具有*的性能设计，集多项于一身，安全性，可靠性，实用性均达*效果。

一、HN.VSF系列真空烧结炉的特点

HN.VSF系列真空烧结炉广泛用于大专院校、科研单位及生产企业在真空或保护气氛条件下对材料进行烧结处理。适用于粉末冶金、陶瓷，在高真空、高温条件下进行烧结、钎焊、退火、除气处理，同时也适于石英材料的脱羟处理。

二、HN.VSF系列真空烧结炉的主要技术参数

1、设备名称：真空钨丝烧结炉

2、额定功率：40KW

3、冷态极限真空度：8×10-4Pa

4、工作区尺寸：￠140×140

5、zui高工作温度：2300℃

6、压升率：≤2Pa/h

7、电源电压：3相 380V 50Hz

8、仪表控温精度：±1℃

9、充气压力：≤0.05MPa（氩气、氮气）

HN.VSF系列真空烧结炉的用途：适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备.