HNA1100℃系列气氛炉

产品用途

1100度气氛炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结。

设备型号

工作尺寸

炉膛容积

极限温度

工作温度

功率电压

HNA1400-20

200x150x150

4.5L

1400℃

≤1300℃

220V   5KW

HNA1400-30

300x200x200

12L

1400℃

≤1300℃

220V   7KW

HNA1400-40

400x300x300

36L

1400℃

≤1300℃

380V  12KW

HNA1400-50

500x400x400

80L

1400℃

≤1300℃

380V  18KW

HNA1400-60

600x500x500

150L

1400℃

≤1300℃

380V  36KW

正负压力

抽真空至 20kPa；zui大工作压力低于0. 1MPa（使用*工作压力≤0.04MPa）

温场效果

温度波动度：±1.0℃，温场均匀性±3.0℃

可充气体

1100度气氛炉可填充氮气，氧气和氩气及其它惰性气体，炉体后面有进气口，炉体顶部或前面有放气口及抽真空口

开门方式

正面开门，从右向左，炉门通过4个夹钳锁紧

壳体结构

1100度气氛炉采用双层炉壳，炉体表面温度低，四周表面温度：≤ 35℃，内箱采用3mm spcc无缝焊接

冷却水系统

正面炉门安装冷却水系统，防止密封圈温度过高老化

安全保护系统

具备完善的保护功能，有超温、短偶、过流、短路、传动动作连锁等功能，操作安全可靠；

操作系统

LED数显仪表，数字显示电流表、电压表，指针压力表

温控系统

温度控制方式为P.I.D S.C.R可控硅,移相触发，可以调控制时间、升温速率、控制功率，PV值与SV同步显示，冲温不超过5℃

温控曲线

50段可编程控制，可设置50段升降温程序

测温元件

S型热电偶

加热元件

硅碳棒，加热元件放在炉膛两侧采用气体对流和热辐射加热，升温速率：≤ 20 ℃/ Min，升温速率建议:5-8℃/Min 

炉膛材料

1600型高纯氧化铝微晶体纤维，保温性能好

售后服务

12个月质保（相关易耗件除外），终身保修

包装方式

三合板木质包装箱或硬质泡沫包装

设备随机配件

高温手套1付；坩埚钳1把；炉底板1块；

产品说明书1份；保修证书1份。

选配配件

1. 自动抽真空、超压自动放气功能
2. 触摸屏无纸记录仪操作系统
3. 冷却水循环设备
4. 声光报警系统
5. 真空泵
6. 流量计
7. 坩埚