VTC-600-2HD-1000-双靶磁控溅射仪_磁控溅射镀膜-上海添时科学仪器有限公司手机版

产品简介

VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪，一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜，一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，

详细介绍

    双靶磁控溅射仪主要特点：

    1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。

    2、可制备多种薄膜，应用广泛。

    3、体积小，操作简便。

    技术参数：

产品名称	VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪
产品型号	VTC-600-1HD
安装条件	本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
	1、水:设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）
	2、电：AC220V 50Hz,必须有良好接地
	3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上）,需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头）及减压阀
	4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
	5、通风装置：需要
主要参数	1、输入电源：220V/50Hz
	2、溅射靶数量：2
	3、靶枪冷却方式：水冷
	4、极限真空度：7.4E-5pa
	5、真空室规格：Φ300×330 mm
	6、真空系统：VRD-16机械泵 FF-100/150涡轮分子泵
	7、恢复真空：系统从大气抽至5.0E-3pa≤30 min（系统短时间暴露大气）
	8、充气系统：2路质量流量计（１路氩气100scc、２路氩气200scc）特殊气体可定制
	9、溅射靶规格：Φ2",厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）
	10、样品台：Φ140mm/可旋转（1～20rpm）/可加热（室温～1000℃）
产品规格	主机尺寸：宽900mm×深650mm×高1100mm

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