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PIPS II 精密离子减薄仪
设备简介:
一代PIPS™离子减薄系统树立了透射电镜(TEM)制样的行业标准已超20年,而全新一代PIPS II 精密离子减薄仪基于一代PIPS 有了根本性的升级。
PIPS II 包含了 WhisperLok®,能对减薄样品进行准确定位。10英寸触摸屏简单易用,提高对减薄区域的精度控制和减薄过程的可重复性。
配备的数码变焦显微镜系统可以实时监测减薄过程,同时可将获取的彩图存储于DM软件中,用于与样品在TEM中成像对比。
性能优点:
WhisperLok系统及X-Y可调样品台:可对样品感兴趣区域进行对中重复减薄
低能量聚焦离子枪:变化的低能量范围的性能可用于FIB样品的表面清扫
能量从 0.1 keV到 8 keV可调 : 低能范围的性能提升可以减少非晶层
液氮冷台:去除热效应产生的样品损伤
10英寸彩色触摸屏控制:简单易用的控制图形用户界面
数码变焦显微镜系统:实时监测减薄过程
DM软件存储彩图:可以使用同TEM和EELS数据相同的格式储存光学显微图像
应用:
半导体
金属(氧化物,合金)
陶瓷
技术规格:
离子源 | |
离子枪 | 两个配有低能聚焦能力电极的潘宁离子枪 |
抛光角度(°) | +10 到-10,每支离子枪可独立调节 |
离子束能量 (keV) | 0.1 ‒ 8.0 |
离子束流密度峰值 (mA/cm2) | 10 |
射束校准 | 使用荧光屏的精密光束校准 |
离子束直径 | 可用气体流量计或放电电压来调节 |
样品台 | |
样品尺寸(mm) | 3 或者 2.3 |
样品夹持 | |
标准 | DuoPost® |
可选 | 石墨台 |
转速 (rpm) | 1 ‒ 6 |
离子束调制 | 角度范围可调的单向调制或双向调制 |
X, Y 方向平移 (mm) | ±0.5 |
样品观察 | |
Option 1 | 双目显微镜 |
Option 2 | 数码变焦显微镜及 DM 软件存储(选配) |
真空系统 | |
干泵系统 | 80 L/s 的涡轮分子泵,具备两级隔膜前级泵 |
压力 (torr) | |
基本压力 | 5 x 10-6 |
工作压力 | 8 x 10-5 |
真空规 | 冷阴极型,用于主样品室;固体型,用于前级机械泵 |
样品气锁 | WhisperLok,技术,样品交换时间小于1 分钟 |
用户界面 | |
10 英寸彩色触摸屏 | 操作简单,且能够完整控制所有参数和配方式操作 |
尺寸及使用要求 | |
外形尺寸 (长 x 宽 x 高, mm) | 547 × 495×615 |
运输重量 (kg) | 45 |
功耗 (W) | |
运行时 | 200 |
待机时 | 100 |
电源要求 | 通用 100/240 VAC, 50/60 Hz (用户额定电压和频率) |
氩气 (psi) | 25 |
订货编号:LR-200635