电子化工用水设备处理简介

微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品 、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺 及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要 求。目前我公司设计制造的电子级超纯水设备出水水质符合美国ASTM标准，电子 部超纯水水质标准(电阻率为18MΩ*cm，15MΩ*cm，10MΩ*cm，2MΩ*cm和 0.5MΩ*cm五级标准)我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯 水指标、日本集成电路水质标 详细信息

电子化工用水设备处理工艺流程

预处理(砂滤器、碳滤器、软化器)→一级反渗透装置→中间水箱→二级反渗透 装置→超纯水水箱→纯水泵→用水点 u 一级反渗透+混床制备超纯水工艺流程 u 预处理→一级反渗透装置→精制混床→精密过滤器→超纯水水箱→纯水泵→用 水点 二级反渗透+抛光混床制备超纯水工艺流程 u 预处理→一级反渗透装置→中间水箱→二级反渗透装置→抛光混床→精密过滤 器→超纯水水箱→纯水泵→用水点 u 二级反渗透+EDI+抛光混床制备超纯水工艺流程(电阻率18MΩ.cm) u 预处理→一级反渗透装置→中间水箱→二级反渗透装置→EDI主机→超纯水水 箱→纯水泵→抛光混床→超纯水水箱→纯水泵→用水点

特点

电子工业超纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密 过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐