近日，那诺中国在“上海交通大学电子信息与电气工程学院掩模板兆声清洗机采购项目”的竞标中，顺利中标，这无疑是对NANO-MASTER综合实力的又一次肯定！

本套设备是NANO-MASTER, INC. 开发的独立立柜式单晶圆/掩模版清洗机SWC-4000，可用于清洗晶圆片、光盘、光学元件、陶瓷基底，或其它类似的平底部件。可以达到去除污染物、残留物、或微尘颗粒等。系统的主要功能包含DI水的兆声清洗、多四路的化学试剂清洗，以及带异丙醇的高速甩干等。因此该系统对于单片清洗而言具有优异的基底清洗能力，并且整个工艺处理时间可以控制在4分钟内。

SWC-4000把所有的清洗需要集成到一个紧凑的立柜中，旋转清洗单元(SWC)、兆声脉冲射流清洗器(PJC) 、和试剂容器以及所有的阀及传感器都全部包含到该系统。Labview可编程的触摸屏用户界面位用于控制旋涂仪的操作。在工序执行阶段，产品的程序数、旋转速度、剩余时间等信息都先显示在用户界面的屏幕上。控制器会自动算出加速度或减速度并提供不同的速度时间梯度。SWC-4000可以存储多达25 套产品程序，每一套程序可以支持20个操作步骤，而在每一个步骤中可以设定以下参数：RPM转速（维持的转速）、RAMP加速梯度（多快时间达到那个速度）、Dwell运行时间（维持想要的速度的时间有多长）。

SWC-4000使用真空托盘固定晶圆片，并能够在可控的时间周期内以的转速旋转，因而可以保证操作具有超高的可重复性及设置的灵活性。掩模版是通过机械托盘来固定的，操作具有高度的可重复性并可设置。托盘可以互换。