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SWC4000CMP后清洗机-单晶圆/掩膜版兆声清洗
CMP后清洗机-单晶圆/掩膜版兆声清洗：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及高洁净度的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻蚀。它可以在一个工艺步骤中包含无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。该系统可以配套机械手，也可以升级为多系统的集成架构。 参考价面议 -
SWC4000单晶圆/硅片/掩膜版清洗机
单晶圆/硅片/掩膜版清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及高洁净度的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻蚀。它可以在一个工艺步骤中包含无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。该系统可以配套机械手，也可以升级为多系统的集成架构。 参考价面议 -
LSC4000 半导体晶圆清洗设备
LSC4000 半导体晶圆清洗设备：Nano-Master兆声大基片湿法刻蚀系统提供高可重复性、高均匀性及高洁净度的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离。它是集成式的一体化系统，可以在一个工艺步骤中包含无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。 参考价面议 -
SWC4000 掩模版兆声清洗机
SWC4000 掩模版兆声清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及高洁净度的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻蚀。它可以在一个工艺步骤中包含无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。该系统可以配套机械手，也可以升级为多系统的集成架构。 参考价面议 -
NIE-4000 IBE离子束刻蚀机
NIE-4000 IBE离子束刻蚀机：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。样品表面通常采用厚胶作为掩模，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。NANO-MASTER技术可以把基片温度控制在50℃以内，以便消除热量及后续的光刻胶剥离。 参考价面议 -
SurfaceSeer S-201高分辨二次离子质谱仪tof-sims
高分辨二次离子质谱仪tof-sims是非常灵敏的表面分析手段，凭借质谱分析、二维成像分析、深度元素分析等功能，广泛应用于医学、细胞学、地质矿物学、半导体、微电子、物理学、材料化学、纳米科学、矿物学、生命科学等领域。 参考价面议 -
SurfaceSeer I-101SIMS二次离子质谱仪
SurfaceSeer I是一款高灵敏度、高质量范围、高分辨率的SIMS二次离子质谱仪（TOF-SIMS），可以用于绝缘、导电表面的成像分析与化学成分分析。SurfaceSeer I是研究表面化学的分析利器，适用于研发和工业质量控制应用。 参考价面议 -
Compact EI-TOF-MS紧凑型电子电离飞行时间质谱仪
紧凑型电子电离飞行时间质谱仪是一款模块化、计算机控制的飞行时间质量分析仪，可作为台式版本提供。该仪器可以很容易地从一个位置运输到另一个位置，例如在汽车或货车中。它为生产和研究应用提供快速、灵敏的气体分析。 参考价面议 -
PTR 2ePTR-TOF-MS质子转移反应飞行时间质谱仪
PTR-TOF-MS质子转移反应飞行时间质谱仪是一种利用H3O+离子将质子转移到比水具有更高质子亲和力的所有化合物的软电离方法。空气中的一般成分不会被氢离子束电离，但大多数挥发性有机化合物（VOC）会被H3O+电离，很少或没有碎裂。 参考价面议 -
PTR 3c质子转移反应飞行时间质谱仪（PTR-TOF-MS）
KORE PTR 3C是KORE最新研发的一款质子转移反应飞行时间质谱仪（PTR-TOF-MS），紧凑型Kore PTR 3c是一种“软”化学电离工具，用于对环境空气中挥发性有机化合物（VOCs）的敏感分析。 参考价面议 -
HR EI-TOF-MS高质量分辨率飞行时间质谱仪EI-TOF-MS
Kore高质量分辨率飞行时间质谱仪EI-TOF-MS提供实时、高时间分辨率、高灵敏度的所有气体种类并行检测。所有的质量都被收集起来，并限度地保留所有的信息。双进样系统包括用于无机气体进样的加热毛细管进样系统以及用于挥发性有机化合物的可渗透膜浓缩进样系统。 参考价面议 -
MS-200便携式飞行时间质谱仪TOF-MS
MS-200便携式飞行时间质谱仪TOF-MS是一款支持电池供电，用于气体分析的电子电离质谱仪—wan全装在手提箱里。 参考价面议