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HR EI-TOF-MS高质量分辨率飞行时间质谱仪EI-TOF-MS
Kore高质量分辨率飞行时间质谱仪EI-TOF-MS提供实时、高时间分辨率、高灵敏度的所有气体种类并行检测。所有的质量都被收集起来，并限度地保留所有的信息。双进样系统包括用于无机气体进样的加热毛细管进样系统以及用于挥发性有机化合物的可渗透膜浓缩进样系统。 参考价面议 -
MS-200便携式飞行时间质谱仪TOF-MS
MS-200便携式飞行时间质谱仪TOF-MS是一款支持电池供电，用于气体分析的电子电离质谱仪—wan全装在手提箱里。 参考价面议 -
SurfaceSeer ITOF-SIMS飞行时间二次离子质谱仪
KoreSurfaceSeerI是一款高灵敏度的TOF-SIMS飞行时间二次离子质谱仪，用于绝缘、导电表面的成像分析与化学成分分析。SurfaceSeerI是研究表面化学的理想选择，适用于研发和工业质量控制应用。 参考价面议 -
SurfaceSeer S飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）
KoreSurfaceSeerS在飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）系列中，是一款高性价比且经久耐用的产品。它是研究样品表面化学成分的理想选择，适用于研发和工业质量控制应用。 参考价面议 -
微波等离子化学气相沉积系统
微波等离子化学气相沉积系统: NM的微波PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12” 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源，样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵，真空可低至10-7 torr。标准配置含1路惰性气体、3路活性气体和4个MFC。 参考价面议 -
光学镀膜设备
光学镀膜设备：NANO-MASTER NOC-4000光学涂覆系统提供*进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆，整个过程不间断真空。系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用，同时具备各自的自动上/下载片功能。 参考价面议 -
光学镀膜系统
光学镀膜系统：NANO-MASTER NOC-4000光学涂覆系统提供*进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆，整个过程不间断真空。系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用，同时具备各自的自动上/下载片功能。 参考价面议 -
RIE刻蚀机
RIE刻蚀机：独立式RIE系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品，不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持Z大到12”的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空 参考价面议 -
进口ALD设备
进口ALD设备：ALD原子层沉积可以满足膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。 参考价面议 -
等离子去胶机
等离子去胶机：NANO-MASTER 等离子去胶和等离子灰化机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理，具有广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。 参考价面议 -
SWC系列/LSC系列兆声清洗机
兆声清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻蚀。该系统配套机械手，也可以升级为多系统的集成架构。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。 参考价面议 -
SWC系列/LSC系列硅片清洗机
硅片清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。 参考价面议