“中国材料大会”圆满落幕CIF等离子清洗机表现出色！
时间：2024-07-15 阅读：317
“中国材料大会”是中国材料研究学会的学术年会，是重要的系列品牌会议之一，是中国新材料界学术水平最高、涉及领域广、前沿动态最新的超万人学术大会，是面向国家重大需求、推动新材料前沿重大突破的高水平品牌大会。
为推动经济社会高质量发展，加快建设科技强国，实现高水平科技自立自强，于2024年7月8-11日在广东省广州市举办中国材料大会2024，同期召开第二届世界材料大会。会议涵盖能源材料、环境材料、先进结构材料、功能材料、材料设计制备与评价等5大类主题；同时开设一批特色论坛，包括青年论坛、特色新材料论坛、材料教育论坛、材料期刊论坛等。除此之外，还同期举行国际新材料科研仪器与设备展览会等。
CIF应邀参加此次展会，展出了CIF等离子清洗机、CIF等离子去胶机、CIF紫外臭氧清洗机、CIF匀胶机、CIF烤胶机等产品。
大会实况
本次“中国材料大会”非常热闹，CIF展台吸引许多老师驻足，纷纷表示出极大的兴趣，以便后续合作。
CIF等离子清洗机作为当家花旦，不管从颜值还是内涵都深受老师的喜爱，老师表示“你们的等离子清洗机颜值又高、功能又全面。”
CIF产品介绍
一、表面改性-等离子清洗机、紫外臭氧清洗机
CIF等离子清洗设备在自动化、智能化进行了技术升级，使得产品性能更加稳定，操更加作简单方便，更易维护。尤其是合理的结构设计，优化的腔体尺寸，使得处理样品更大，适用范围更广。广泛应用于材料学、微电子、半导体、线路板、LED、微流控、光电太阳能、生物医学等领域，用于材料表面进行清洗、改性、刻蚀等。
1、CIF科研型等离子清洗机系列产品
2、CIF行业专用等离子清洗系列产品
3、CIF紫外臭氧清洗机系列产品
CIF紫外臭氧清洗机系列产品采用长寿命UV石英低压汞蒸汽格栅灯，样品台高度可调并可选加热控温，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物，达到最佳清洗效果。
二、表面去胶-等离子去胶机
CIF等离子去胶机，采用电感耦合各向同性（各个方向）等离子激发方式，适用于所有的基材及复杂的几何构形都可以进行等离子体去胶。特别适合于大学，科研院所和微电子、半导体企业实验室，对电路板、外延片、芯片、环氧基树脂、MEMS制造过程中牺牲层，干刻或湿刻处理前或后，对基材进行聚合物剥离、金属剥离、掩膜材料等光刻胶去除，以及晶圆表面预处理等。
三、表面刻蚀-等离子刻蚀机
CIF反应离子刻蚀机，采用RIE反应离子诱导激发方式，实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特别适合于大学、科研院所，微电子、半导体企业实验室进行介电材料（SiO2、SiNx等）刻蚀、硅基材料（Si，a-Si，poly Si）刻蚀、III-V材料（GaAs、InP、GaN等）、溅射金属（Au、Pt、Ti、Ta、W等）等基材及复杂的几何构形进行RIE反应离子刻蚀
