晟鼎-小型真空等离子清洗机 半导体行业应用，会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。晟鼎真空等离子清洗机 半导体行业应用

（1）达因特真空等离子清洗机产品简述

（1.1）等离子清洗的作用

等离子清洗的作用原理主要是：

（A）对材料表面的刻蚀作用--物理作用

等离子体中的大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，不但清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。

（B）激活键能，交联作用

等离子体中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的键能在0~10eV，因此等离子体作用到固体表面后，可以将固体表面的原有的化学键产生断裂，等离子体中的自由基与这些键形成网状的交联结构，大大地激活了表面活性。

（C）形成新的官能团--化学作用

如果放电气体中引入反应性气体，那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应，引入新的官能团，如烃基、氨基、羧基等，这些官能团都是活性基团，能明显提高材料表面活性。

（1.2）小型真空等离子清洗机清洗的优势

等离子清洗作为重要的材料表面改性方法，已经在众多领域广泛使用。晟鼎真空等离子清洗机 半导体行业应用