过程臭氧分析仪半导体干法清洗设备专用是一款针对测量高浓度臭氧的气体检测模块，用于检测工业过程中的气态臭氧浓度。基于紫外分光吸收原理设计，利用臭氧气体对特定紫外线吸收力的大小不同，来达到臭氧浓度检测的目的，采用耐高压冲击的检测腔室结构及恒温控制设计，具有精准性和可靠性。

应用领域

本仪器主要应用于测量半导体晶片制造、水处理和臭氧研究等过程中产生的气态臭氧浓度，测量范围可达到0-400mg/L。

产品特点
①高稳定性；

②采用自动控制系统；

③高纯度接触材料设计；

④温度、压力、光源实时补偿，在不同环境下数据稳定准确；

⑤气路直线设计，使得产品安装更为方便；

⑥密封圈采用全氟醚材质，更耐臭氧腐蚀。

过程臭氧分析仪半导体干法清洗设备专用技术参数
量  程：0-400mg/L
精  度：1%F.S
重 复性：1%F.S

零 漂 移：1%F.S/月
响应时间：2秒到95%

气体流量：0.5-25L/min

压力范围：0-115psi
模拟输出：0-5V

串口通讯：RS485，波特率9600bps

电源输入：15V

接    口：316L不锈钢1/4VCR接头

预热时间：15min

工作温度：5～45℃

标准温度：0℃
尺  寸：170*55*134.9mm
重  量：1.1k