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荷兰ISTEQ公司TEUS系列EUV光源
产品介绍：
ISTEQ公司开发了一种基于激光产生等离子体（LPP）的EUV光源。该光源具有ji高的亮度和ji高的稳定性。它采用可自刷新的材料，无需中断和更换燃料盒，因此持续运行时间极长。
ISTEQ公司为LPP光源开发的燃料是针对特定应用的光谱范围而设计的。然而，对于掩模检查的应用，公司开发了一种高频锡旋转靶，已在全球范围内获得专li。
产品特点：
·高亮度以及出色的稳定性
·最少的碎片
·ji高的正常运行时间
·高占空比和交钥匙操作
·用户友好的自动化协议，确保系统平稳运行，没有中断的风险。
产品应用：
·掩模和表面检查：
·图案掩模检测 (PMI)
·区域掩模检测 (AIMS)
·掩模空白检测 (MBI)
·EUV 扫描仪检
·材料科学
·晶圆检查
TEUS 系列激光等离子体光源 |
型号参数：
型号 | TEUS S-100 | TEUS S-200 | TEUS S-400 |
激光平均功率100 | 400 | ||
脉冲重频25或50或100或EUV功率立体角0.05 | |||
等离子体尺寸m | 60或≤ 4≤ (13.5 nm±2 % @2π·sr or 1.6% @2π·sr | ||
碎片处理系统后角内光通量11 或22 或44 或W/mm2·sr | 80或≥≥ 280 | 310或≥ 3% rms | |
在10% | 不少于4个月 | 不少于24/7运行状态下，使用特殊膜过滤器情况下，收集器寿命下降18个月 | 不少于4个月 |
维护时间间隔 | - 1 天 | - 2天 | - 1天 |
*** | 3个月 | 5 kW | 10.5 kW |
尺寸（长×宽×高）1500×1200 | |||
重量，包括激光组件770 | |||
房间洁净度等级 | 10升15升25升/分钟 | ||
