GSC-1000磁控溅射系统​

GSC-1000磁控溅射系统概述：

带有水冷或者加热(高可加热到700度)功能，大到6"旋转平台，大可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

产品特点：

• 不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔

• 70l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵

• 1KW DC直流电源

• 晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率

• 带观察视窗的腔门易于上下载片

• 基于LabView软件的PC计算机控制

• 带密码保护功能的多级访问控制

• *的安全联锁功能

  选配项： Thickness Monitor   膜厚监测
  应   用： SEM应用 溅射金属，大到6"的晶圆片

  

   

   

   

                                                                                         

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