CVD-铜基硅基单层/少层/多层氮化硼BN薄膜

齐岳供应CVD-铜基硅基单层/少层/多层氮化硼BN薄膜

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2020-05-14 15:06:33
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西安齐岳生物科技有限公司

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产品简介

CVD-铜基硅基单层/少层/多层氮化硼BN薄膜
在50um厚铜箔上生长了多层氮化硼薄膜。h-B N是一种直接能隙为6ev的体,B-N原子间具有强的离子键。我们采用h-BN化学气相沉积工艺,使缺陷密度保持在较低水平(~1E10-1e11cm-2),并增加单畴尺寸以降低1D晶粒缺陷浓度。多层h-BN板尺寸约为5cm x 5cm或约2x2英寸。

详细介绍

CVD-铜基硅基单层/少层/多层氮化硼BN薄膜

西安齐岳生物供应一系列的纳米材料,供应

CVD-少层氮化硼BN薄膜
硅基单层氮化硼BN薄膜
CVD-多层氮化硼BN薄膜
CVD铜基多层氮化硼薄膜

CVD-铜基硅基单层/少层/多层氮化硼BN薄膜

在50um厚铜箔上生长了多层氮化硼薄膜。h-B N是一种直接能隙为6ev的体,B-N原子间具有强的离子键。我们采用h-BN化学气相沉积工艺,使缺陷密度保持在较低水平(~1E10-1e11cm-2),并增加单畴尺寸以降低1D晶粒缺陷浓度。多层h-BN板尺寸约为5cm x 5cm或约2x2英寸。

h-BN的性质

在50um厚铜箔上生长了多层氮化硼薄膜。h-B N是一种直接能隙为6ev的体,B-N原子间具有强的离子键。我们采用h-BN化学气相沉积工艺,使缺陷密度保持在较低水平(~1E10-1e11cm-2),并增加单畴尺寸以降低1D晶粒缺陷浓度。多层h-BN板尺寸约为5cm x 5cm或约2x2英寸。

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温馨提醒:用于科研哦(zhn2020.05.14)

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