结构分析场发射扫描电镜/ ULTRA系列扫描电镜ULTRA综合采用了用于形貌成像的GEMINI® In-len二次电子探测器、用于清晰的组分衬度的EsB探测器和用于采集晶体通道信息的AsB探测器。同步的实时成像与信号混合功能提供了*的成像能力。 
EsB探测器包含有一个过滤栅网，通过它可实现高分辨率背散射电子成像，让以前无法看见的细节历历在目。
卡尔.蔡司*的荷电补偿功能在使用所有探测器时，都可以分析非导电样品 

 低加速电压时的超高分辨率二次电子和背散射电子成像 
 用于在纳米尺度上实现组分衬度成像的高效EsB / AsB探测器 
 精确控制的超大自动优中心（eucentric）样品台 
 背散射电子和二次电子信号的实时成像与混合功能 
 抑制不导电样品的荷电效应 
 用于X射线分析和背散射电子衍射（EBSD）应用的超稳定束流模式

结构分析场发射扫描电镜/ ULTRA系列扫描电镜技术参数：

ULTRA 55SE

成像与测量工作站

主要特点：

ULTRA——*的成像工具

看得更多——超高分辨率的SE与BSE同步成像 
看得更清——精确的*成像能力 
看得更细——纳米尺度上进行组分分析的利器 
简便易用——全面集成的镜筒内置式背散射电子探测器（EsB）和二次电子探测器（In-lens     detector） 
远离荷电——Ultra plus中安装有荷电补偿器，实现了不导电样品的清晰、精确成像