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小型真空炉基本结构组成:
1、加热区炉膛采用上下两部分结构,其中上部炉膛可整体向后翻转90°,方便保护管的观察和取放。
2、炉膛材料采用进口陶瓷纤维,温场均衡、表面温度低、升温速率快、节能等优点;
3、电热元件采用进口高电阻合金丝或硅碳棒;
4、炉体两端采用不锈钢密封法兰,耐高温、耐腐蚀;
5、保护管采用石英管或耐热钢金属管,旋转速度 3-20r/min,可根据需要手动调节;
6、炉体可远程遥控倾斜30°;
7、炉体采用双层空气隔热技术,配有自动冷却风扇,降低炉体外壳温度;
8、控制系统采用进口40段程序控温,控温精度±1℃,移相触发、可控硅控制;
9、可以采用单温区、多温区控制;
10、铰链式的加热腔体设计,可以方便地取出和插入实验容器;
性能特点:
1.采用高纯石英管或高纯氧化铝管作为炉管,工作温度区间可达到800℃至1200℃。
2.小型真空炉以进口硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和智能化程序控温系统,移相触发,可控硅控制。
3.炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温。
4.真空泵可以根据客户要求的真空度选配。
5.安全可靠,操作简单,控温精度高,保温效果好,炉膛温度均匀性高。
6.且具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
实验室小型真空炉 气体保护下烧结氮气炉常规炉膛尺寸(mm)
100x100x100,200x150x150
300x200x200,400x300x300,500x400x400
小型真空炉构造:
炉体:炉体通常由高温耐火材料制成,如陶瓷或石墨,以承受高温和真空环境。
真空系统:真空系统包括一个抽气装置和一个真空测量仪器,用于将炉体内的空气抽出并维持低气压。
控制系统:控制系统主要用于控制加热系统的温度和真空系统的压力。此外,控制系统还可以控制炉体的开关和运行状态。
样品架:样品架用于放置需要进行处理的材料。同时,真空系统可以将炉体内的空气抽出,降低气压,从而减少材料在高温下与氧气接触的机会,避免氧化和燃烧等反应的发生。
在使用小型真空炉时,需要注意以下事项:
安全问题:小型真空炉在运行过程中会产生高温和真空环境,如果不正确使用,可能会对人体造成伤害。
真空系统的维护:真空系统是小型真空炉的关键部分,需要定期进行维护和保养。
炉体内气氛的控制:在小型真空炉的运行过程中,炉体内气氛的控制非常重要。同时,需要保证样品的干燥和清洁,以避免在处理过程中出现意外情况。在使用小型真空炉时,需要注意安全问题、真空系统的维护、加热系统的维护、炉体内气氛的控制以及样品的选择和处理等方面。只有正确使用小型真空炉,才能实现其最大的应用价值。
*其他规格型号可以定制
小型真空炉是真空技术与热处理技术相结合的新型热处理技术,真空热处理所处的真空环境指的是低于一个大气压的气氛环境,包括低真空、中等真空、高真空和 真空,真空热处理实际也属于气氛控制热处理。真空热处理是指热处理工艺的全部和部分在真空状态下进行的,与常规热处理相比,真空热处理的同时,可实现无氧化、无脱碳、无渗碳,可去掉工件表面的磷屑,并有脱脂除气等作用,从而达到表面光亮净化的效果。
规格参数:
高温度: | 1200℃,1400℃,1700℃,1800℃ |
常规炉膛尺寸: | 100x100x100, 200x150x150, 300x200x200, 400x300x300, 500x400x400 |
工作电压: | 220V/380V |
热电偶: | K型(0-1200℃),S型(0-1600°C),B型(0-1820°C) |
加热元件: | 含钼电阻丝,优质硅碳棒,优质硅钼棒 |
控温精度: | ±1℃ |
升温速率: | 高20℃/每分钟,建议低于15℃/每分钟 |
真空度: | 约-0.1MPA |
可通气体: | 惰性气体,混合气体,氮气,二氧化碳,氧气,水蒸气等,不可通入易燃易爆、酸碱腐蚀性或有毒气体 |
密封方式: | 整体炉门,硅胶内嵌密封,使用方便 |
控温方式: | 智能温控仪,30/50段编程PID自整定,智能自动升降温;也可选配RS-485接口连接电脑 |
炉膛材质: | 轻质氧化铝陶瓷纤维,保温效果优良 |
箱体设计: | 壳体采用双层强制风冷构造 |
节能效果: | 能效高、节能环保 |
电路安全: | 集成模块电路,双回路保护(超高温保护,偏温保护,断偶保护,超流超压保护) |
电炉应用: | 学校以及研究机构科研院所研究及小批量生产,应用领域有金属,陶瓷,化工,电子,矿产,玻璃,机械,特殊材料等 |