MetriLiDAR MM-X系列微型激光干涉仪基于激光干涉原理，激光干涉仪是高精度、高灵敏度的测量仪器，广泛应用在先进制造领域。MetriLiDAR MM-X系列微型激光干涉仪采用了自主研发的高度集成化的激光传感平台，以工业应用中最重要的线型标定为核心,将干涉仪的参考光路内置于干涉仪中，将光学相干光路等集成在单个光电芯片上，一步实现激光干涉仪的线型测长和标定功能，从而简化了干涉仪系统测试时的复杂程度。

MetriLiDAR MM-X系列微型激光干涉仪半导体典型应用

●超高精度位置跟踪应用

在光刻过程中,分辨率是反映光刻机理论上可识别的最小特征尺寸的重要指标,也决定着运动系统的控制精度。由于整个曝光过程中要求系统以恒定的速度运行,对速度的均匀性要求较高,因此对控制的精度的要求更为苛刻,通常情况下,匀速性由跟踪误差反映,无掩模扫描式光刻系统的控制要满足纳米级精度, 工件台自身的控制也要求达到该数量级，并且工件台控制系统的跟踪定位精度也是影响套刻精度的重要因素,预防反复曝光芯片刻蚀过程中,发生偏离导致电路图案扭曲影响芯片性能。

l  平面检测

在光刻测量过程中,硅片在高速运动情况下,容易发生形变,从而影响硅片的平面度,降低光刻精度。为了优化硅片平台的操作模式,需要一种纳米级超高精度、无接触的形变量测量方式。