VibroMet™ 2振动抛光机

VibroMet™ 2振动抛光机

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-10-25 09:22:32
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上海西努光学科技有限公司

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产品简介

VibroMet™ 2振动抛光机可快速去除样品表面机械化制样后残留的细微变形层,从而得到无应力的制备表面,而不必使用电解抛光制备所必需的危险电解液。结合VibroMet 2与MasterMet 2二氧化硅抛光液对样品进行化学-机械抛光,
可适用于背散射电子衍射(EBSD)或原子力显微镜分析(AFM)。不同于传统的振动抛光机,VibroMet 2可以产生几乎*水平方向的振动,Z大限度地提高

详细介绍

 VibroMet™ 2振动抛光机可快速去除样品表面机械化制样后残留的细微变形层,从而得到无应力的制备表面,而不必使用电解抛光制备所必需的危险电解液。结合VibroMet 2与MasterMet 2二氧化硅抛光液对样品进行化学-机械抛光,可适用于背散射电子衍射(EBSD)或原子力显微镜分析(AFM)。不同于传统的振动抛光机,VibroMet 2可以产生几乎*水平方向的振动,zui大限度地提高了样品接触抛光布的时间。用户设定好程序后就可以离开,样品会在抛光盘中自动地开始振动抛光。

VibroMet™ 2振动抛光机快速去除样品表面变形层

水平运动温和地抛光样品不引起机械应力

所得样品表面适用于背散射电子衍射(EBSD)或原子力显微镜分析(AFM)

对混合材料和不均匀样品都能达到*的制备效果

无需使用危险电解液

替换电解抛光仪和危险电解液

结合VibroMet 2 与MasterMet二氧化硅抛光液,MicroCloth 抛光布对样品进行化学-机械抛光

设定后无需过多留心

样品在抛光盘中可自动开始振动抛光

12in [305 mm]直径抛光盘可同时制备多达18个样品

VibroMet™ 2 振动抛光机

• 振动抛光机用于在机械制备后去除剩余的轻微变形,以显现无应力的表面,而不必使用电解抛光所需的危险的电解液

• 将VibroMet™ 2 振动抛光机 和MasterMet™ 2 胶体二氧化硅配合使用,进行化学机械抛光的试样表面可满足电子背散射衍射(EBSD)或原子

力显微镜(AFM) 分析

• 和zui终抛光液配合使用(pg.69-70)

• 磨盘尺寸为12in [305mm]

Part Number电压/频率
67-1635-160115VAC, 60Hz
67-1635-250220VAC, 50Hz
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