TN-G1100ZC高真空CVD管式炉

该仪器是一个三温区真空管式炉主要用于大专院校、科研院所、工矿企业等试验和小批量生产之用。主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。

仪器的控制系统，采用双层风冷结构；炉膛采用高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型；加热元件为进口电阻丝，配有真空装置，可在多种气氛下工作，大大提高了其使用范围。该炉具有使用温度高，操作简单，维修方便等特点，可广泛用于冶金，机械，轻工，商检，高等院校及科研部门。玻璃封装、陶瓷电子元件、磁性材料、粉末冶金等产品的排胶，预烧和烧成，智能高温箱式炉，也可用于稀土发光材料及其他材料的热处理工艺。

具有操作容易，安全可靠，控温精度高（专家PID控制），保温效果好，温度范围大，炉膛温度均匀性高，温区多，可通气泵，抽真空等特点。

TN-G1100ZC高真空CVD管式炉炉体采用数控机床加工，经抛光、打磨、酸洗、磷化、喷涂塑粉、高温烘烤等制作而成具备了抗氧化、耐酸碱、耐腐蚀、耐高温、容易清理。