TN-G1200ZC型管式炉CVD系统

该仪器可广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验，也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。

TN-G1200ZC管式炉CVD系统

采用双层风冷结构；炉膛采用高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型；加热元件为进口电阻丝，配有真空装置，可在多种气氛下工作，大大提高了其使用范围。该炉具有使用温度高，操作简单，维修方便等特点，可广泛用于冶金，机械，轻工，商检，高等院校及科研部门。广泛用于玻璃封装、陶瓷电子元件、磁性材料、粉末冶金等产品的排胶，预烧和烧成，智能高温箱式炉，也可用于稀土发光材料及其他材料的热处理工艺。性能特点：

1.设备的控制系统*，安全可靠、操作简单、控温精度高。

2.仪器采购商职业安全健康管理体系标准的要求，不会对接触产品的人员健康造成损害，且不会对环境造成污染。

3.仪器保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、可通气氛抽，是化验室使用仪器的理想仪器。

技术参数：