1、引言

VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。

2、主要技术指标

电源：AC220V 50Hz

功率：350W

真空度:MAX -0.08MPa

转速：500rpm-6000rpm

时间：1s-60s

尺寸：Ø250mm×290mm

重量：25kg

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VTC-200P真空旋转涂膜机   VTC-200P真空旋转涂膜机