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LFT1200C400D80VTSL单温区立式滑轨炉
单温区立式滑轨炉设计为立式结构，炉体可电动滑动。预升温的管式炉可快速移动到样品区，实现样品快速升温反应。也可程序控制升温，实验扩张性好。反应气体自上而下，炉管下端通过磨砂口密封和下端出气口相连，经过冷却槽后将多余气体排出。 参考价面议 -
大口径封管机LQS01 D56/58
大口径封管机LQS01 D56/58设备主要用于实现样品的无氧无水真空密封保存，整套系统由封管机、氢氧焰机及真空系统（客户自备）等组成。该设备在真空条件下将石英管软化，由管内外压力差，软化后的石英管向内收缩，此过程为石英管缩颈处理。缩颈完成后，放入配套石英柱，在进行烧熔密封处理。 参考价面议 -
LFM1200C 64VC真空气氛箱式炉
真空气氛箱式炉 LFM1200C 64VC用于在1100℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的炭化试验。该炉采用电阻丝加热，PID程序控温仪控制，温控仪可设定30 段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断偶、超温报警保护等功能。 参考价面议 -
LFT1200C2400D200VIII1200系列八温区真空管式炉
1200系列八温区真空管式炉LFT1200C2400D200VIII设备主要适用于中小批量材料在高温条件下热处理，集控制系统与炉膛为一体，保温材料使用高纯氧化铝纤维材料，内嵌式加热式与保温材料一体成型。炉管采用高纯石英管，石英管和金属法兰之前采用橡胶挤压密封，加热丝均匀分布于炉管四周，确保良好的温场均匀性。测温采用性能稳定、长寿命（适于中高温检测）的“K”型热电偶，以提高控温的精确性。 参考价面议 -
卧式真空热处理炉 LFT1200 400D60-VIII-HVK
卧式真空热处理炉 LFT1200 400D60-VIII-HVK设备设计为高通量实验使用，设备有8套独立的温控系统沟通，8根独立的石英管可同时参试8组不同实验，并配有独立的真空装置和进气装置，大大提高实验效率。同时8管炉为整体设计，减少占地空间，提高实验室空间利用。 参考价面议 -
LFT1200 CT井式坩埚炉
此井式坩埚炉设备是集控制系统与炉膛为一体,炉膛是使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用电阻丝为加热元件，最高发热温度可达1200℃。采用双层壳体结构，配有风冷系统，使得壳体表面的温度小于60度。炉膛材料采用高纯氧化铝多晶纤维，保温耐用，高效节能50%。 参考价面议 -
LFT1400C600D150II VT双温区立式管式炉
该设备为1400系列双温区立式管式炉，可两段独立控温。根据实验需求可得到两段不同的温场，也可得到超长恒温区。 参考价面议 -
LQS-01S 400D100 1000HVG预加热石英管真空封口系统
预加热石英管真空封口系统主要用于实现样品的无氧无水真空密封保存和高温固相合成，整套系统由真空封管系统、真空泵系统、分子泵系统、加热系统、氢氧机等组成，标准化定制石英管和石英柱保证其特殊设计的管接头精确匹配，从而进一步提升石英管的密封性，实现更高标准的真空封管。 参考价面议 -
LFT1100C 2100D300 IV-R1200系列六温区真空回转炉
1200系列六温区真空回转炉主要适用于中小批量粉末材料在高温条件下热处理或者粉末材料的表面生长，该回转加热系统集控制系统与炉膛为一体。炉膛使用高纯氧化铝纤维材料,采用优质硅碳棒为加热元件，炉膛材料为高纯氧化铝纤维，保温性能更好。 参考价面议 -
LFT1400C 800D802Z碳纳米膜制备设备
碳纳米膜制备设备如图所示，由气体质量流量计控制系统、液体注液系统、多段温度可控多区生长系统、水冷却系统、碳纳米线或膜收集系统，红外烘干系统等组成。 参考价面议 -
LSQ-01 VT HV1000单工位高真空封管机系统
单工位高真空封管机系统主要用于样品的无氧无水真空密封保存和高温固相合成，整套系统由真空封管机、氢氧焰机、真空系统、石英管机管接头组成，标准化定制石英管和石英柱保证其余特殊设计的管接头配合，提升石英管封装的密封性，实现更高标准的真空封管。 参考价面议 -
LFT1700C 150D50LFT1700C系列高温真空管式炉
LFT1700C系列高温真空管式炉如图所示，集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用1800型真空成型高纯氧化铝聚轻材料，加热元件为优质硅钼棒。 参考价面议