M系列光束笔尖阵列光刻系统

M系列光束笔尖阵列光刻系统

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2022-12-29 17:32:02
1681
属性:
价格区间:30万-50万;应用领域:综合;组件类别:光学元件;
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产品属性
价格区间
30万-50万
应用领域
综合
组件类别
光学元件
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北京培科创新技术有限公司

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产品简介

M系列光束笔尖阵列光刻系统:聚合物笔无掩模光刻纳米制造系统(polymer pen lithography)聚合物笔纳米无掩模光刻制造系统PPL, 使用可达160000笔尖的阵列,采用蘸笔光刻DPN的方式,将待沉积的材料(墨水)浸蘸在笔尖阵列上,笔尖可控的与基底表面接触,从而在基底表面批量成型所需图案,加工纳米微米图案无需光掩膜,且在平方厘米范围内达到200纳米以下的分辨率。

详细介绍

M系列光束笔尖阵列光刻系统主要特点:

- 高分辨率,可达低于100nm的分辨率;

- 高通量模式,可达160000针尖输出制作结构;

- TERA-FAB M系列可制作厘米级材料尺寸;

- 无需掩模,即时性改变输出机构,可广泛适应软质和硬质材料;

- 软硬件友好,非专业人士可在几小时培训后,熟练使用。

A)一张4英寸的PPL阵列,有1100万支笔尖。

B)阵列内纳米尺度弹性材料*的扫描电子显微照片及内嵌图像;

C)由PPL技术打印的多种蛋白示意图。各针尖阵列蘸上不同的打印墨水(蛋白);

D)荧光光学显微图的结果,PPL合成了多路荧光标记蛋白的图案。

如需了解M系列光束笔尖阵列光刻系统详情可搜索北京培科创新技术有限公司,或查看仪器信息网/分析测试百科网了解,期待您的垂询!

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