纹影仪

WKWY-300纹影仪

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2022-06-12 22:09:39
5418
属性:
产地类别:国产;应用领域:化工;
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产品属性
产地类别
国产
应用领域
化工
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四川物科光学精密机械有限公司

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产品简介

WKWY-300纹影仪是利用光在被测流场中的折射率梯度正比于流场的气流密度的原理,将流场中密度梯度的变化转变为记录平面上相对光强的变化,使可压缩流场中的激波、压缩波等密度变化剧烈可用来观察透明介质因各种因素引起的扰动的分布、传播过程以及扰动强度等。如研究激光与物质作用、分层流、多项流、传热与传质、激波、超声速流、燃烧、火焰、爆炸、等离子体、内弹道及某些化学反应等学科的流场密度变化科学研究。

详细介绍

纹影仪可用来观察透明介质因各种因素引起的扰动的分布、传播过程以及扰动强度等。如研究激光与物质作用、分层流、多项流、传热与传质、激波、超声速流、燃烧、火焰、爆炸、等离子体、内弹道及某些化学反应等学科的流场密度变化科学研究。泰普勒纹影仪是传统、使用*的一种。

技术参数:

参数

最大值

最小值

备注

视场

Φ1000mm

Φ50mm

 

相对孔径

1:10

1:20

 

像鉴别率

≥40lp/mm

照明设备

普通激光光源、LED光源、钨灯光源

成像传感器

数码单反相机、高速相机、记录干板

狭缝类型

单狭缝、多狭缝、小孔、色散棱镜或光栅、彩色圆孔或者方孔狭缝

刀口类型

单刀口、双刀口、四刀口、栅格刀口、圆形刀口等

结构类型

积木式、筒式、平板式或者相关结构类型

其中主反射镜光学材料:K9光学玻璃,应力≤2,加工面型精度<1/10λ;反射面真空镀铝,镀二氧化硅保护膜。小反射镜表面真空镀铝,镀二氧化硅保护膜,反射系数≥90%,面型精度<1/10波长。

该系统主要的光机部件主要可以分为:光源狭缝系统、主球面反射镜装调机构、刀口成像系统三个部分。其中,光源狭缝系统和其中一块主球面反射镜组成准直系统,刀口成像系统与其中一块主球面反射镜组成纹影观视系统,分别布局于两个平台上。

纹影法,又称纹影技术,包括黑、白纹影法,彩色纹影法和干涉纹影法,是用纹影系统进行流场显示和测量的常用的光学方法。纹影法首先由Toepler于1864年提出,并应用在光学玻璃折射率的检测中。

1952年 ,Holde和Norht在纹影系统上使用白光的分光棱镜 ,实现了彩色纹影成象,扩大了纹影技术的应用范围;1962年,Bland和pelick用纹影法研究了水的压力和温度效应后指出,纹影法实用于水洞 的流场显示;1974年 ,Merzkirch对可压缩流场中的纹影技术进行了分类,把涉及到在纹影系统上进行的干涉纹影法的研究 ,包括光栅干涉、棱镜干涉以及Moire条纹干涉等 ,均归类于纹影技术,并得到国内同行的认可。

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