HMDS涂胶机（无尘干燥箱）

HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

HMDS涂胶机产品特点：

●机外壳采用冷扎钢板喷塑处理，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。
●箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。
●微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。
●智能化触摸屏控制系统配套PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。
●HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。
●HMDS管路加热功能，使HMDS液体进入箱体的前端管路加热，使转为HMDS气态时更易。
●低液报警装置，采用红外液体感测器，能及时灵敏给出指令（当HMDS液过低时发出报警及及时切断工作起动功能）
●温度与PLC联动保护功能（当PLC没有启动程序时，加温功能启动不了，相反加温功能启动时，PLC程序不按正常走时也及时切断工作功能，发出警报）
●整个箱体及HMDS气体管路采用SUS316不锈钢材料，整体使用无缝焊接（避免拼接导致HMDS液体腐蚀外泄对人体的伤害）

HMDS涂胶机（无尘干燥箱）产品参数：
●内胆尺寸：650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;
●载物托架：2块
●室温+10℃-250℃控温范围：温度分辨率：0.1℃温度波动度：±0.5℃
●真空泵：油泵或无油真空泵。真空度：133pa，
●加热方式：腔体下部及两侧加温。加热器为外置加热板（防止一侧加热使的HMDS液进入箱体内不能完本转成气态）
●可放2寸晶圆片或4寸晶圆片；6寸晶圆片；8寸晶圆片等。
●开箱温度可以由user自行设定来降低process时间（正常工艺在50分钟-120分钟（按产品所需而定烘烤时间），为正常工作周期不含降温时间（因降温时间为常规降温）；

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