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工业超纯水设备(RO+EDI)
工业超纯水设备适用于集成电路芯片、单晶硅、显像管、液晶显示器、计算机硬盘、线路板等工艺所需的纯水和超纯水制备。在严格执行ISO-9001国际质量体系标准的前提下,采用世界上的反渗透膜元件。压力容器和高压泵、配以合理而又高效的前处理设备及后处理设备,使产品出水符合各类工业生产标准的超纯水。控制系统选用PLC程序控制,可实现自动起停、加药及冲洗,自动监测各种运行参数,并可实现运行参数的储存及打印广泛适用于: 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路 LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管 超纯材料和超纯化学试剂光导纤维、光盘等。
工业超纯水设备典型工艺流程:
1.预处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺)
2.预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象 (≥18MΩ.CM)(传统工艺)
3.预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM
4.预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-精密过滤器(0.2或0.5μm)-用水对象(≥17MΩ.CM)
5.预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)
超纯水设备的应用:
●工业生产用水,如单晶硅超纯水设备、半导体纯水处理设备、集成电路块用水设备、IC芯片封装用水设备、显象管用水设备、玻壳超纯水处理
●LCD液晶清洗用水设备、光学水处理,光学玻璃清洗用水设备、光电超纯水设备
●热电厂用水、冶金工业用水、化工纯水设备、轻工工程用水、汽车制造清洗用水
●制药纯化水、医疗卫生等制造工业用纯水。
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