LNEYA/无锡冠亚 品牌
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冷热循环装置chiller 反应釜冷热控温系统
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面议型号 | SUNDI-125 SUNDI-125W | SUNDI-135 SUNDI-135W | SUNDI-155 SUNDI-155W | SUNDI-175 SUNDI-175W | SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W | SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W | |||||||
介质温度范围 | -10℃~+200℃ | ||||||||||||
控制系统 | 前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器 | ||||||||||||
温控模式选择 | 物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择 | ||||||||||||
温差控制 | 设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定 | ||||||||||||
程序编辑 | 可编制5条程序,每条程序可编制40段步骤 | ||||||||||||
通信协议 | MODBUS RTU 协议 RS 485接口 | ||||||||||||
外接入温度反馈 | PT100或4~20mA或通信给定(默认PT100) | ||||||||||||
温度反馈 | 设备导热介质 进口温度、出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度 | ||||||||||||
导热介质温控精度 | ±0.5℃ | ||||||||||||
反应物料温控精度 | ±1℃ | ||||||||||||
加热功率 kW | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
制冷量 kW | 200℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | ||||||
20℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
-5℃ | 1.5 | 2.1 | 3.3 | 4.2 | 6 | 9 | |||||||
流量压力 max L/min bar | 20 | 35 | 35 | 50 | 50 | 75 | |||||||
2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2.5 | ||||||||
压缩机 | 海立 | 艾默生谷轮/丹佛斯涡旋压缩机 | |||||||||||
膨胀阀 | 丹佛斯/艾默生热力膨胀阀 | ||||||||||||
蒸发器 | 丹佛斯/高力板式换热器 | ||||||||||||
操作面板 | 7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录 | ||||||||||||
安全防护 | 具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。 | ||||||||||||
密闭循环系统 | 整个系统为全密闭系统,高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份,系统在运行中不会因为高温使压力上升,低温自动补充导热介质。 | ||||||||||||
制冷剂 | R-404A/R507C | ||||||||||||
接口尺寸 | G1/2 | G3/4 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | |||||||
水冷型 W 温度 20度 | 600L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 800L/H 1.5bar~4bar G1/2 | 1000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1200L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1600L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | |||||||
外型尺寸(水)cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | |||||||
外形尺寸 (风)cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 70*100*175 | |||||||
隔爆尺寸(风) cm | 45*110*130 | 45*110*130 | 45*110*130 | 55*120*170 | 55*120*170 | 55*120*170 | |||||||
正压防爆(水)cm | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 120*110*195 | |||||||
常规重量kg | 115 | 165 | 185 | 235 | 280 | 300 | |||||||
电源 380V 50HZ | AC 220V 50HZ 3.6kW | 5.6kW | 7.5kW | 10kW | 13kW | 20kW | |||||||
选配风冷尺寸cm | / | 50*68*145 | 50*68*145 | 50*68*145 | / | / |
TCU控温单元 微通道用制冷加热控温系统
TCU控温单元 微通道用制冷加热控温系统
高低温加热循环装置实现了对介质温度的快速响应与准确控制,不仅提高了化学反应的效率和可控性,还为精细化工、冶金等多个行业提供了可靠的温度控制解决方案。
1、准确控温:
化学反应往往对温度条件有着一定的要求。高低温加热循环装置能够轻松应对从零下几十度到几百的宽幅温度变化,为各种化学反应提供稳定的温度环境。例如,在氢化反应中,通过低温降温可以收集反应后产生的物质,使反应过程更加可控。
2、提高反应效率:
高低温加热循环装置通过快速升降温功能,缩短了反应达到目标温度的时间,从而提高了反应效率。同时,温度的准确控制也减少了因温度波动导致的副反应,提高了产物的纯度和收率。
3、扩展反应范围:
许多化学反应需要在特定的温度条件下进行。高低温加热循环装置能够在不同温度条件和反应介质下合成具备不同性能的材料,从而扩展了化学反应的范围。例如,在材料合成过程中,往往需要不同的温度条件,该设备能够满足这些需求,合成出具有特定性能的材料。
4、保障安全与质量:
化学反应过程中,温度控制不当可能导致危险事故的发生。高低温加热循环装置通过准确的温控系统和良好的密封性能,确保了反应过程的安全性和稳定性。同时,其防腐性能也保证了高纯度化学品生产过程中的质量。
在精细化工领域,高低温加热循环装置成功解决了传统控温方式下温度波动大、响应速度慢的问题。该装置的应用使得关键化学反应的温度控制精度提升至±0.1℃,显著提高了产品的收率和纯度。
无锡冠亚的各种设备的原理以及参数仅供参考,不同客户实际拿到的设备是按照自己的工况需求与参数设计生产出来的,设备配置、价格以及型号存在一定的差异,具体以销售联系沟通为准。