半导体真空磁控溅射仪器
半导体真空磁控溅射仪器
半导体真空磁控溅射仪器

KT-Z1650PVD半导体真空磁控溅射仪器

参考价: 订货量:
38800 1

具体成交价以合同协议为准
2024-03-27 15:03:30
1888
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产地类别:国产;应用领域:环保,能源,电子,冶金,航天;
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产品属性
产地类别
国产
应用领域
环保,能源,电子,冶金,航天
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郑州科探仪器设备有限公司

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产品简介

半导体真空磁控溅射仪器郑州科探KT-Z1650PVD,能够在非导电或导电不良的样品上涂布金(Au),钯(Pd),铂(Pt)和金/钯(Au / Pd)的薄膜。 在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜,使样品适用于扫描电子显微镜(SEM)分析。仪器结构紧凑,全自动控制,设计符合人体工程学,所得结果一致,可重复性高。

详细介绍

郑州科探仪器设备是高质量定制物理 气相沉积(PVD)系统的设计者和制造商,客户服务和售后服务出色。拥有7年以上真空和薄膜沉积技术经验。其研发团队在学界科学家和工程师的支持下,高度积极地开发新设计以满足客户的特殊要求。

   郑科探的工程团队设计和制造的组件符合高质量标准。KT-Z1650PVD真空镀膜机已通过分销商销往许多大学和研究中心,并得到了很好的参考和反馈。

仪器描述:

半导体真空磁控溅射仪器,能够在非导电或导电不良的样品上涂布金(Au),钯(Pd),铂(Pt)和金/钯(Au / Pd)的薄膜。 在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜,使样品适用于扫描电子显微镜(SEM)分析。仪器结构紧凑,全自动控制,设计符合人体工程学,所得结果一致,可重复性高。


    产品特点:

    彩色触摸屏:数据输入简单快速

    • 通过触摸屏中直观检测数据和曲线;历史页面可显示历史涂层信息。

    • 可控镀膜速率,可得到更精细的晶粒结构

    • 可手动或自动,根据时间或根据厚度进行溅射

• 样品台更换简单:标准旋转样品台或选用行星式旋转样品台。标准样品台高度可调、可倾斜、可旋转;行星式旋转样品台为多孔样品带来好的喷金效果。

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半导体真空磁控溅射仪器技术参数;

控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

溅射电源

直流溅射电源

镀膜功能

0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

功率

≤1000W

输出电压电流

电压≤1000V  电流≤1A

真空

机械泵 ≤5Pa(5分钟)   分子泵≤5*10^-3Pa

溅射真空

≤30Pa

挡板类型

电控

真空腔室

石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm

样品台

可旋转φ62  (可安装φ50基底)

样品台转速

8转/分钟

样品溅射源调节距离

40-105mm

真空测量

皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa  1E-1Pa)

预留真空接口

KF25抽气口    KF16放气口   6mm卡套进气口










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