日立高新磁控溅射器MC1000采用了电磁管电极，能够大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的大样品直径：60 mm
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的大样品高度：20 mm
日立高新磁控溅射器MC1000特点：
采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件
可处理较厚或较大的样品(选配件)
记忆功能可存储常用加工条件
规格：
| 项目 | 说明 |
| 放电 | 类型 | 磁控二极管放电型（电场垂直于磁场） |
| 电极组成 | 反向平行盘（嵌入磁铁） |
| 电压 | 大0.4Kv DC（直流可变） |
| 电流 | 大40mA DC |
喷镀速率(大）[条件] 压力：7Pa 放电电流:40mA 标靶与样品表面之间的距离:20mm | Pt靶(选配件) | 15nm/min |
| Pt-Pd靶（选配件） | 20nm/min |
| Au靶(选配件) | 35nm/min |
| Au-Pd靶（选配件） | 25nm/min |
| 样品尺寸 | 大直径 | Ф60mm |
| 大高度 | 20mm |
| 机械泵 | 135/162 L/min(50/60Hz) |
| 靶材﹡² | Pt, Pt-Pd (8: 2), Au, Au-Pd(6: 4) |
| 电源要求 | 单相,100VAC(±10%)15A(50/60Hz)3-针插头线缆(3m) |
| 尺寸 | 宽度 | 450mm |
| 长度 | 391mm |
| 高度 | 390mm |
| 重量 | 主机:约25Kg 机械泵:约28kg |
﹡¹：喷镀速率仅供参考 ﹡²：主机内不包括靶材。请从选项中选择（鉑,铂-钯,金,金-钯) |
