瑞士IDONUS 氢氟酸气相刻蚀机

瑞士IDONUS 氢氟酸气相刻蚀机产品描述

VPE由反应室和盖子组成。加热元件集成在盖子中。它控制要蚀刻的基板的温度。晶圆夹持可以通过两种方式实现：晶圆可以通过使用夹紧环进行机械夹紧。拧紧是从设备的背面完成的，该背面从不与 HF 蒸汽接触。3 个螺母易于戴防护手套处理。另一种选择是静电夹紧。单个芯片（长度超过 10 毫米）和晶圆可以夹在加热元件上。晶圆的背面受到保护，不会被蚀刻。

液态HF被填充到反应室中。反应室用盖子封闭。HF蒸气在室温下产生，蚀刻过程自发开始。蚀刻速率由晶圆温度控制，晶圆温度可在 35°C 至 60°C 之间调节。 处理后，酸可以储存在储液罐中，以便在可密封的容器中重复使用。
液体输送只需用手柄降低连通储液罐即可完成。由于重力作用，酸流入储层，可以通过两个阀门关闭。通过打开阀门并抬起手柄来重新填充反应室。酸流入反应室。酸可以重新用于多次蚀刻，直到必须更换。

VPE系统占地面积小，可以很容易地集成到现有的流箱中。