其他品牌 品牌
代理商厂商性质
上海市所在地
德国 Inheco单板培养箱摇床 微孔板
面议LK TECHNOLOGIES 高分辨电子能量损失谱仪
面议美国 LK TECHNOLOGIES 俄歇能谱仪
面议美国 LK TECHNOLOGIES 电子枪 真空
面议美国 Nonsequitur 低能量离子枪 真空
面议Nonsequitur 高能离子枪 离子源 真空
面议Nonsequitur 20kV 离子枪 离子源 真空
面议美国 Nonsequitur 离子枪 真空
面议美国 Nonsequitur 低能量离子枪 真空
面议Glen Mills 玻璃珠 研磨介质 实验室分析仪
¥99999Glen Mills 砂浆研磨机 实验室分析仪
¥99999Glen Mills实验室研磨机 分析仪
¥99999PREVAC 傅里叶变换红外光谱统
PREVAC FTIR光谱系统专为红外光谱研究而设计。PREVAC FTIR光谱系统配备了精密的样品定位机制、观察窗口以及未来设备的备用端口。PREVAC FTIR光谱系统包括玻璃端口,并且已为与布鲁克光谱公司(Bruker Optics Inc.)的红外光谱仪配合使用做好了准备。根据需要,也可以与其他市售光谱仪进行接口连接。
PREVAC 傅里叶变换红外光谱统
PREVAC FTIR光谱系统技术特征:
UHV-HP 平台用于傅里叶变换红外光谱(FTIR)
液氮(LN2)或液氦(LHe)冷却解决方案
红外透射和反射模式
透射模式下可选配 DRIFT、ATR、RAIRS 功能
具有差分抽气的KBr观察窗口
针对布鲁克光谱公司(Bruker Optics Inc.)的红外光谱仪进行优化(根据需要,也可以与其他市售光谱仪进行接口连接)
独立的光谱仪框架,易于断开连接
模块化框架,准备扩展
PREVAC FTIR光谱系统可选组件:
TDS 热解吸光谱
IS40C1 清洗离子源
气体加注系统
宽范围压力调节系统(1 mbar – 10^-10 mbar)
PREVAC 磁控溅射系统 032 PRIMS basic MS system是一款使用简单但功能齐全的溅射沉积单元,用于可重复的薄膜层应用。即插即用紧凑型设计。
磁控溅射系统 032 PRIMS basic MS system工艺室包含3个用于磁控溅射源(用于金属和无机物)的端口,安装在向下溅射配置中。最多同时使用两个源(共沉积)衬底台适用于直径不超过2英寸的样品,可选择加热和旋转。
快速泵送系统(带手动节流阀)与小体积的工艺室相结合,使您能够在短时间内达到基本压力。工艺室配有高压标准的连接法兰,用于连接当前和未来的设备,包括:
多达3个磁控管源2“,
基板操纵器,
泵送系统,
防止交叉污染的防护罩,
石英天平,
视口–带快门的观察窗口,
真空计,
高温计
磁控溅射系统 032 PRIMS basic MS system主要特征:
插头和工作结构
易于使用的移动单元,用于快速测试和溅射涂层
带有大型真空门的处理室,便于更换目标或基板
配备MS2 100 ISO-K磁控管电源和新型M600DC-PS电源
用于直径不超过2〃样品的衬底台
工艺室直径:dst 355 mm
用于2英寸磁控管源的3个端口
1个视口-带快门的观察窗口
防止交叉污染的防护罩
基本压力范围10-7毫巴
带真空计的快速泵送系统
Ar气体质量流量控制自动加药
车轮上的刚性主框架使系统易于放置
手动节流阀