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LK Technologies低能电子衍射仪真空组件

参  考  价面议
具体成交价以合同协议为准

产品型号RVL2000

品       牌其他品牌

厂商性质代理商

所  在  地上海市

更新时间:2024-12-13 11:13:58浏览次数:373次

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应用领域 综合
LK Technologies低能电子衍射仪真空组件
联系张经理:I872I868549(微信同号)

LK Technologies低能电子衍射仪真空组件LK Technologies低能电子衍射仪真空组件

自1998年以来,LK一直在全球范围内提供LEED低能电子衍射仪系统。

RVL2000低能电子衍射仪(LEED)的精密反向LEED低能电子衍射仪光学元件采用所有UHV结构,无需使用玻璃纤维或聚合物涂层线束。提供完整系列的型号和选件,包括低电流(nA,pA)MCP型号。所有光学器件均采用4网格结构,以实现与俄歇电子能谱AES连用

  • 采用4格钨光学元件的精密结构

  • 微型1.59厘米直径电子枪

  • 103度可用视角

  • 0.5%的能量分辨率

  • 提供可伸缩光学元件(标准2英寸和最大4英寸缩回)

  • 安装法兰具有整体视口和电气穿通装置

  • 与UHV兼容(不使用聚合物涂层或玻璃纤维绝缘线)

  • 低噪音,高性能的俄歇电子设备,带有集成锁定放大器

  • MCP版本的pA和nA电流水平

  • 全系列选项包括低调快门,CCD摄像头和软件,6英寸和8英寸外径法兰型号

  • LK Technologies低能电子衍射仪真空组件

  • LK Technologies低能电子衍射仪真空组件

  • HREELS高分辨电子能量损失谱仪在分辨率和信号水平方面表现全球。现在结合我们的多通道分析仪选件(EA5000MCA),可实现数据采集速度。用于研究表面分子振动,表面声子和等离子体以及电子能级和能带隙。

  • LK Technologies低能电子衍射仪真空组件

  • 超高分辨率0.5 meV FWHM

  • 在1.0 meV分辨率(FWHM)下保证探测器电流大于或等于10pA

  • 采用具有可控角度像差的新型静电偏转器

  • 具有菜单驱动软件的低噪声数字控制电子设备

  • 用户可选择的扫描范围高达50 eV,适用于电子振动/电子应用

  • LK1000M电子有出色能量分辨率的电子源,针对高输出电流进行了优化 应用于逆UPS,EELS等电子碰撞实验。

  • LK Technologies低能电子衍射仪真空组件

  • 低于10 meV的能量分辨率可通过能量调节

  • 在20 meV能量分辨率下,典型输出电流> 10 nA

  • 单通道双聚焦单色器,具有空间电荷优化功能

  • 5元素变焦镜头/转移镜头,适用于长工作距离

  • 整体磁屏蔽

  • 除了表面分析组件外,LK Technologies还专门设计和构建完整的特高压系统,这些系统通常结合了LK组件和其他制造商的多种表面分析方法。

  • 这些系统的常见元件是精密UHV室,主泵(通常是离子泵),辅助泵(通常是涡轮分子),精密样品操纵器,安装框架和真空计量。客户通常要求的可选组件是快速样品引入系统(加载锁定)和烘烤控制。

  • 请联系LK获取更多信息,并讨论您的自定义系统要求。多探针分析系统是全球实验室提供的一个例子:

  • 多探针分析系统,包括XPS分析,X射线单色仪,半球形分析仪,AES,ISS,多通道HREELS和带有快速样品加载系统的完整样品制备室。

  • LK Technologies低能电子衍射仪真空组件

LK-Technologies强大,流行的离子源设计用于通过离子溅射清洁表面,光束能量高达3 keV,典型离子电流高达30μA。该喷枪采用了一种新颖的气体喷射系统,该系统允许在典型的1×10 -6托的腔室压力下进行溅射。

  • 气体注入系统避免了昂贵的差动泵送设备

  • 低室压下的惰性气体溅射

  • 宽离子束确保均匀溅射

  • 与普通溅射清洁和ISS应用兼容

  • 连续可调谐的电压从200 V到3 kV

  • 带USB或以太网接口的数字控制电子设备



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