紫外UV臭氧清洗机的清洗是一个干燥的过程。而紫外臭氧清洗机内会配备臭氧清除装置，废气臭氧在系统内分解，不会造成清洁室内的臭氧含量过高从而产生危害。紫外臭氧清洗机也可配置成连续加载的清洗线，并可与DI水冲洗系统耦合，清除表面的颗粒。

紫外UV臭氧清洗机的工作原理，紫外线(UV)灯照射分为两种波长(185和254 nm)。每个波长对化学反应都有不同的作用。185nm紫外线将氧分子O2解离成三联体原子氧O(3P)。三重原子氧O(3P)与氧分子氧O2结合生成臭氧O3。

另一方面，254纳米紫外线分解臭氧O3，形成分子氧O2和单线态原子氧O(1D)。单线态原子氧(1D)具有较强的氧化能力，与基体表面发生反应。在这个反应中，表面被氧化在无机基板上，如硅片。在有机材料中，分子的链断裂发生，有机残留物污染物作为挥发性副产物分子如CO2、H2O和O2被轻易地去除，从而能够有效地清除无机基材表面的有机污染物。

紫外UV臭氧清洗机应用范围较广，在材料研究和器件制造等很多领域都有应用。可以用于硅片和塑料包装的表面清洗；用于在MOCVD和ALD工艺之前对III-V复合半导体晶圆片(如GaAs和InP)进行表面清洗；用于玻璃、PDMS、PMMA、COC、COP等基材的直接清洗；适用于各类材质表面的有机污染物清洗。