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面议Hitachi日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器!
日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的混合模式带有两种研磨配置:
断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面以下结构高分辨成像。
平面研磨:将样品表面均匀研磨5平方毫米,从不同角度有选择地研磨,以便突出样品的表面特性。
日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的高通量能提高加工效率:与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间。(大加工率:硅元素为300微米/小时--加工时间减少了66%。
日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的可拆卸样品台装置:为便于样品设置和定义研磨边缘,可将样品台装置拆卸。
Hitachi日立高新离子研磨装置IM4000特点
混合模式:两种研磨配置
断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面高分辨观察
平面研磨:不同角度有选择地,大面积,均匀地研磨5 mm的平面,以突显样品的表面特性
高效:提高加工效率,与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间(大加工速度:硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%)
可拆卸式样品台:为便于样品设置和边缘研磨,样品台设计为可拆卸型
规格
项目 | 描述 | |
断面加工台 | 平面研磨台 | |
气源 | 氩气(Ar) | |
加速电压 | 0-6Kv | |
大研磨速率﹡¹﹡²(硅材质) | 约300μm/h﹡¹﹡² | 约20μm/h﹡³(点) 约2μm/h﹡⁴(面) |
大样品尺寸 | 20(W)×12(D)×7(H)mm | Φ50×25(H)mm |
样品移动范围 | X±7mm,Y0-+3mm | X0-+5mm |
旋转角度 | - | 1r/m,25r/m |
摆动角度 | ±15°,±30°,±40° | ±60°,±90° |
倾斜 | - | 0-90° |
气体流量控制系统 | 流量调节器 | |
排气系统 | 涡轮分子泵(33L/S)+机械泵(50Hz时,135L/min,60Hz时,162L/min) | |
仪器外观尺寸 | 616(W)×705(D)×312(H)mm | |
仪器重量 | 主机48kg+机械泵28Kg | |
可选附件 | 光学显微镜(用于观测研磨中的样品) | |
﹡¹:此研磨速率是对研磨板边缘处的硅材质的材料研磨至100μm粒度时所获得的大深度值 ﹡²:此研磨速率是对硅材质的材料进行研磨两小时后获得的平均值 ﹡³:照射角度60°偏心值4mm ﹡⁴:照射角度0°偏心值0mm
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