碳纳米管CVD制备系统

该设备用于制备纳米碳材料，如碳纳米管粉、碳纳米管薄膜和定向碳纳米管制备；采用封闭式管式炉，石英反应管直径50mm/70mm~110mm*1000mm，基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm；气源包括氢气、氮气、甲烷、酒精等；

MPCVD是一种碳纳米管化学汽相沉积综合系统，具备一个水平石英管式炉,该系统可以稳定生产垂直对齐的CNT和各种粉末CNT。成熟的工艺保证了制备质量和数量，也可用于三维形状的CNT制备。乙醇注入装置配备一个滴定法流量控制系统，气体输入端口配备三通道质量流量气体控制器(惰性气体,碳氢化合物气体,氢气)。

真空排气系统使得该系统能够在一个广泛的气压下运行，从大气到低压(10 Pa),也可用作为热处理系统，例如：真空炉、大气炉、氮化炉。

碳纳米管CVD制备系统

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3. 碳纳米管制备系统：用于高质量碳纳米管制备、纳米颗粒或薄膜制备、ZnO纳米带制备等；
4. 碳纳米管生产系统CVD：用于粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等；
5. 催化剂薄膜制备系统：可沉积催化剂薄膜在各种材料上，用于高性能碳纳米管的指标；

技术特点：
       *成熟的碳纳米材料制备工艺
       *乙醇和碳氢化合物作为碳源
       *用于SWCNT 合成
       *具备催化剂前体供应功能
       *可以合成较长长度 ( ~500 um)垂直对齐的CNT和粉末状的CNT
       *具备三通道气体质量控制器
       *体积小，基座稳定
       *高温度：1200度；

技术参数：
基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm；
粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等；