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美国 Sutter 公司的 BV-10-B 磨超微电极装置设计简单易用，在整个操作过程中其*的研磨板驱动系统可以迅速完成玻璃电极的研磨，能精密打磨斜面及直径在 0.1 和 50µm 之间的玻璃电极。磨板旋转平稳，基座配有磁力耦合， 旋转速度约 60 rpm。且通过磨超微电极装置研磨的斜面玻璃电极，一方面降低了玻璃电极对细胞的穿透阻力，几乎能直接进入，另一方也能穿透非常小或困难的细胞。显微镜下用注射针头也受益于斜面，能以最小的损伤进入细胞。
《主要应用》美国 Sutter 公司的 BV-10-B 磨超微电极装置适用于电生理实验用玻璃电极、细胞内外记录电极、微注射等各种玻璃微电极。
² 
无振动，斜面表面磁耦合
² 磨盘表面为半波长（250nm）光学平面
² 采用好的磨料
² 同步时钟电动机确保稳定呢的转速
² 7 磅重的底座增加了额外的振动阻尼
² 配有 LED 灯
² 配有能控制打磨的精度和角度的微操作器
1、 打磨范围：0.1-50µm
2、 打磨的差异：小于 1.0µm
3、 打磨速度：60 RPM
4、 打磨角度：5-90 度可调
5、 微操作器：粗调 1.9mm，微调0.01mm
6、 电极电阻测量仪测量范围：0-10，
0-100，0-500Ω。
