天仁微纳 品牌
生产厂家厂商性质
青岛市所在地
GL150/300 CLIV紫外纳米压印光刻设备主要功能
● 全自动150/300mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印生产线
●CLIV技术，确保压印结构精度与结构填充完整性
●Cassette to cassette自动上下片，光学巡边预对位
●设备内自动复制柔性复合工作模具，同时支持自动更换工作模具，适合连续生产
●自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程在密闭洁净环境中自动进行，以保证压印质量
●标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>1000mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，支持各种商用纳米压印材料
●产能可大于40片每小时，适合DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的量产
●随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际的纳米压印水平
| 兼容基底尺寸 | GL150 CLIV：2inch、3inch、100mm、150mm GL300 CLIV：200mm、300mm 特殊尺寸可定制 |
| 支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金属等 |
| 上下片方式 | Cassette to cassette全自动上下片 |
| 晶圆预对位 | 光学巡边预对位 |
| 纳米压印技术 | CLIV技术，适合高精度、高深宽比纳米结构压印 |
| 压印精度 | 优于10纳米* |
| 结构深宽比 | 优于10比1* |
| 残余层控制 | 可小于10nm* |
| 紫外固化光源 | 紫外LED（365nm）面光源，光强>1000mW/cm2，水冷冷却（2000mW/cm2类型光源可选配） |
| 设备内部环境控制 | 标配，外部环境Class 100，内部环境可达Class 10* |
| 自动压印 | 支持 |
| 自动脱模 | 支持 |
| 自动工作模具复制 | 支持 |
| 自动工作模具更换 | 支持 |
| 模具基底对位功能 | 自动对位（选配） |
| 产能 | 可大于40片每小时* |
