Elveflow AF用于准确快速的产生和控制压力，从而控制微流控芯片中流体的流量。

Elveflow AF1/AF1 Dual压力进样器仪器详细介绍

AF1集成了一个微型的压力泵，高精度压力传感器和压电控制的气压阀。它无需外界压力源就可以产生从0-1.6 bar的压力，并准确的控制输出的压力，从而控制微流控芯片中的流速。AF1的响应速度小于50 ms，稳定时间小于40 ms，压力波动小于0.05%。AF1可以提供高达1升体积的压力源，即使长时间高流速的实验也可以轻松面对。

AF1 Dual Pressure &Vacuum Controller不仅可以提供正压力，也可以提供负压力，其压力控制范围从－0.7到1 bar。在使用AF1 dual的时候，客户需要联合Vacuum& Pressure Generator一起使用。

设备参数

软件控制界面

在Elveflow Smart Interface中可以对压力进行准确的控制