单温区滑杆式PECVD系统

一、PECVD系统组成：

单温区滑杆式PECVD系统由滑竿式真空管式炉、石英真空室、射频电源、供气系统、抽气系统、真空测量系统组成。

二、系统特点：

1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态

2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低

3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小

4、单温区滑杆式PECVD系统比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高

5、广泛应用于：各种薄膜的生长

三、系统组成

1、HGSK2-10-12DZ单温区滑竿式管式炉

1.1、炉管尺寸：φ100*1800mm

1.2、炉管材质：石英玻璃

1.3、外型尺寸：1800*460*660mm

1.4、温区数量：单温区

1.5、设计温度：1200℃

1.6、电源功率：AV200V\50Hz；3.5kw

1.7、滑轨材质：不锈钢

1.8、滑动方式：手动不锈钢滚珠轴承

1.9、控温仪表：智能30段程序控温仪表

1.10、控温精度：±1℃

1.11、加热区长度：400mm

1.12、控制方式：可控硅触发控制

1.13、热电偶：K型

1.14、安全措施：超温、过压、过流

1.15、真空密封：不锈钢法兰

2、射频电源（等离子发生器）

2.1、功率范围：0-500w

2.2、最大发射功率：200w

2.3、射频宽度：0-600mm

2.4、射频接口：50Ω N-TYPE

2.5、射频工作频率：13.56MHZ

2.6、电源：AC220v、50Hz

3、供气系统

3.1、双路质子流量供气系统

3.2、质子流量计流量范围可选

3.3、进出气接口：标配双卡套不锈钢接头

3.4、供气系统压力范围：0.1-0.5MPa

3.5、混气室：φ50*400mm

3.6、接口规格：φ6  1/4”

4、真空抽气系统：

4.1、真空泵FX-16

4.1.1、极限压强：4*10-2Pa

4.1.2、进气接口：KF25

4.1.3、电机转速：1440RPM

4.1.4、抽气速率：4L/S

4.1.5、电机功率：550w

4.2、电阻真空计ZDR-1

4.2.1、功率：25w

4.2.2、真空度范围：0.1-10*5Pa

4.2.3、电阻硅：ZJ-52T

HGSK2-10-12DZ-PECVD单温区滑竿式PECVD系统配置：

单温区滑竿式管式炉一台、射频电源一套、两路质子流量供气系统一套、抽真空系统一套