薄膜、TEM微孔氮化硅膜

【基本信息】

中文名称：TEM微孔氮化硅膜

纯度：99.9%

材料：LPCVD 氮化硅薄膜

介电常数：6-7

介电强度：10（106 V/cm ）

电阻率：1016Ω-cm

粗糙度（Ra)：0.28±5%nm

杨氏模量：270GPa

粗糙度(Rms)：0.40±5%nm

存储：-20℃冷藏、密封、避光

保存时间：1年

规格：mg

用途：仅用于科研，不能用于人体

薄膜、TEM微孔氮化硅膜

【详情描述】

TEM微孔氮化硅膜是指通过透射电子显微镜（Transmission Electron Microscopy，TEM）观察的具有微孔结构的氮化硅薄膜。这可能涉及到纳米材料、薄膜技术和电子显微镜等多个领域。

TEM（透射电子显微镜）：

定义： TEM是一种高分辨率的电子显微镜，能够通过样品中透射的电子来产生高分辨率的图像。它常用于观察纳米级和亚纳米级尺度的材料结构。

微孔氮化硅膜：

定义：微孔氮化硅膜指的是具有微小孔隙结构的氮化硅（Silicon Nitride）薄膜。这种结构可能在纳米尺度上具有特殊的电学、光学或传感性质。

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以上资料来自西安昊然生物小编JMY 2024.1.31.         

以上文中提到的产品仅用于科研，不能用于人体及其他用途。